二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293646025 待售

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ID: 293646025
Ion implanter Process chamber COMP II ESC Roplat tilter assembly UES2 Process end station Dual load locks: 25 Wafer capacity Polished integrated loadlock Self aligning atmospheric door 4-Wafer walk out sensors in pass through cassette Through-beam wafer mapping sensor BROOKS AUTOMATION DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement ESC Controller: P/N: E19283790 MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3 Drive mechanism: E11320430 Orientor Assembly VAC-407 IN VAC Arms Foups/Load ports: 4-FOUP Complies Module: Gas module 1: Argon Gas module 2: BF3 Gas module 3: AsH3 Gas module 4: PH3 Exhaust / Pump system: BOC EDWARDS STP-A Source turbo pump BOC EDWARDS STP-A Beam line turbo pump EBARA A10S Source rough pump EBARA A10S End station rough pump BROOKS OBIS320FE Cryo pump TC750 Load-Lock Turbo pump Power supply: 3 Phase, 208 VAC.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC是一種離子植入器和監控器,旨在為半導體器件制造提供出色的工藝控制和高生產率。設備的高級功能位於單個腔室內,並由用戶友好界面控制。系統的離子植入器部分由一個大的、圓柱形的高能加速器組成,具有可調的開口角度,可以設置到不同值的範圍內,以調整離子的角擴散。這允許各種植入選擇性選擇,如大角度和廣域植入物。該單元還具有高精度、10軸饋線,可以以微米級精度定位,允許精確控制離子束的位置、大小和形狀。該機的監控部分采用多檢測器設置,可以測量植入器束電流和能量、通量密度、大角度散射和角度擴展等一系列參數。這允許對植入過程進行連續質量控制,並將設備故障的風險降至最低。該工具還配備了緊急停止和屏蔽保護等幾個安全功能,以防止在操作資產時受到高能輻射,最大限度地降低受傷風險。它還包含一個復雜的光學和電氣診斷模型,以監測離子束的性能並確保最佳性能。此外,AMAT VIISta HC旨在方便地集成到現有生產線中,並提供與外圍部件(如等離子體或蝕刻系統)連接的選項。這提供了極大的靈活性,保證了整個生產線的可靠運行。總體而言,VARIAN VIISta HC是一款功能強大、可靠的植入器和顯示器,能夠在半導體器件制造中提供出色的工藝控制和高產。
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