二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293651987 待售
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ID: 293651987
晶圓大小: 8"-12"
優質的: 2005
Ion implanter, 8"-12"
Process chamber
Pumps not included
Source head: Advance 54mm
ESC (Platen): COMP II
Roplat tilter assembly
UES2 Process endstation
Load locks:
Dual, 25 Wafer capacity
Polished integrated loadlock
Self aligning atmospheric door
4-Wafer walk out sensors in pass through cassette
Through-beam wafer mapping sensor
BROOKS DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement
ESC Controller:
P/N: E19283790
MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3
Drive mechanism:
E11320430 Orientor assembly
VAC-407 IN VAC Arms
Foups/Load ports: 4-FOUP Complies
Module:
Gas module 1: Argon
Gas module 2: BF3
Gas module 3: AsH3
Gas module 4: PH3
Power supply: 3 Phase, 208 VAC
2005 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC是一種高電流離子植入器和監控器，為提供高生產率和卓越的工藝控制和可靠性而開發。它結合了多種技術，實現了包括高壓電源、大電流射束設備以及先進的監控系統在內的卓越性能。大電流電源可提供高達3 μ A至45 keV的大動態範圍,適用於直徑不超過200 mm的薄而厚的基板。註射器的設計保證了準確的顆粒通量和電流傳遞，促進了一致和可重復的植入物。它還提供所有關鍵參數的數字閉環控制，如能量、電流、光束傳播和掃描速度。先進的監控機器旨在最大限度地提高樣品質量，最大限度地減少人工幹預。它具有用於過程監控的多個傳感器、用於接口植入控制器的可編程邏輯控制器以及用於用戶定義參數的交互式控制界面。此外，該工具的實施提供了高度準確的植入時間和改進的整體過程控制。AMAT VIISta HC Ion Implanter and Monitor旨在滿足最苛刻的統一性、吞吐量和容量要求。它旨在提高吞吐量和提高生產水平,並滿足最嚴格的規範。此外,還針對不同的生產要求設計了易於維護和工藝優化的方案.此外，它還提供數字信號處理和數據顯示，以確保精確分析的最佳植入結果。
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