二手 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 #9203300 待售
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已售出
ID: 9203300
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
High dose implanter, 12"
Single wafer plasma doping system
(2) VIISta PLAD process modules
Plasma implant voltage range: 200V to 10kV
Using precision pulsed DC supply
Programmable ramped wafer bias for optimum dopant profile control
High density plasma generation
Control system
Real-time magnetically suppressed Faraday closed loop dose control system
Electrostatic wafer platens
With He backside gas cooling
Automated pressure control system
Base system includes
Power distribution: 50/60 Hz
VIISta single-wafer end station & tool control
Dual wafer capacity: 25
Polished load locks
Independent vacuum control
High voltage power supply drivers
Uninterruptible power supply
Transport module vacuum chamber
Dual vacuum robots
Horizontal motion control
Backside pick-and-place wafer handling
Orientation & centering station
Automatic pumping system:
(2) PFEIFFER 1201 Turbo-molecular pumps
One per process module
(2) PFEIFFER 261
Turbo-molecular pumps
Remote rack assembly:
Plasma power supply drivers
Deionized water recirculation system
Power distribution panel to support all controllers & sub-systems
Remote cabling ten meters
Rack space for mechanical dry pumps
VCS Runs on the Microsoft Windows NT / Windows 2000
Multitasking operating system
Process gas control module
Standard 4 channel gas module including three toxic
One inert gas
5 Channels per process module
System I/O: VARIAN control system
SEMI S2-0200 & S8-0701 compliant
VIISta factory automation
S-series buffer with 4 load ports
Direct-drive atmospheric robot & thru-beam mapping capability
Facilities from bottom
Factory automation kit brooks S-series EFEM
With vision loadports
Operation: 60 Hz
Gas box: 5 Channels per chamber
Process gas input from the bottom: 5 Channels
Left process chamber for CH4 left process chamber for CH4
Right process chamber for AsH3/PH3
Configure system for right chamber to run AsH3 and PH3 process
Label kit
POC UHP Roof
Standard remote module
T2 15m remote harness
Hose kit T2 15m remote harness
T2 15m remote hose kit
2007 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2是由世界領先的半導體設備供應商之一設計制造的最先進的離子植入器和監控設備。它具有獨特的集成式真空植入系統，能夠產生均勻高效的離子植入劑量。AMAT VIISta PLAD T2具有一個完全自動化的軟件單元,可以為幾乎任何應用程序實現精確的植入配置文件。該機器提供具有廣泛測量功能的集成光束輪廓監視器,使客戶能夠密切監視植入過程,確保安全性、設備產量和過程優化。VARIAN VIISta PLAD T2提供了一個完全可定制的平臺，以滿足各種植入過程的需求。它可以支持與其他AMAT系統的集成，如掃描監控工具的掃描、離子膜厚度監視器和溫度控制器。應用材料VIISta PLAD T2具有高分辨率的360°成像工具。這一資產允許實現最高水平的植入配置文件，同時確保精確和可重復的結果。VIISta PLAD T2還包括一個帶有集成電源模型的高級控制機櫃,可提供無與倫比的穩定性、準確性和可靠性。VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2監視器具有改進的過程控制和實時報警功能,並與其他系統集成以提高自動化程度。此外,該設備還采用了獲得專利的緊湊型植入物源技術,該技術旨在改善植入物的幾何形狀、減少漂移和提高工藝一致性。該系統還為用戶提供了廣泛的監測、匹配和分析能力，用於測量光束形狀和波動，以確認設備在任何時候的最佳運行。綜上所述，VIISta PLAD T2是來自VARIAN的最先進的離子植入器和監視器。它提供了一個完全可定制的平臺,具有集成的波束輪廓監控、過程控制和報警功能、高分辨率成像和集成電源。此外，它還采用了緊湊型植入物源技術，旨在改善植入物的幾何形狀，減少漂移，提高工藝的均勻性。所有這些功能結合在一起，創造了一個最先進的工具，能夠提供精確和可重復的植入結果有效和高效。
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