二手 VARIAN DF4 #9161508 待售

VARIAN DF4是一種離子植入器和監控器,用於保護精確的離子植入.它是一種高功率植入器，旨在提高半導體制造業植入過程的可靠性和一致性。設備使用高壓射頻發生器、加速器和束線組件，使高電流達到150mA，重離子的能量達到32 keV。這些元件創建了一個自平衡光束傳播系統,以確保動態光束的精度,從而獲得最大的精度和可重復性。該單元支持硫、氮、硼、磷和砷等離子，可同時使用1MHz和500kHz的DC&RF偏置。射頻發生器允許選擇各種植入條件來優化離子植入過程。此外，射頻發生器能夠在植入過程中采用射頻偏置開關，主動調節射頻偏置電壓，優化植入條件。DF4的高吞吐量能力也使其成為許多半導體生產過程的經濟高效的解決方案。該機器可在目標區域實現高達40微米/分鐘的高劑量植入率，並可在各種壓力和氣體類型的範圍內運行。這允許在各種半導體生產過程中使用。VARIAN DF4包括堅固、高質量的工藝,可提高其實用性和耐用性。它采用人體工程學設計，由多個安裝點和可調節的腳組成，以確保設備在各種基板上的安全使用。該光束線支持最大光束電流為18 nA,由堅固的真空質量材料制成,可最大程度地延長設備壽命。該工具包括一種先進的監測資產，能夠持續監測和創建植入過程報告，以便對任何生產環境進行精確控制。監測模型包括一個真空控制設備，用於監測壓力、溫度和氣體流量等所有真空參數。這為操作員提供實時反饋，以確保植入過程的準確性。監控系統還可以報告離子源輪廓、束線和目標配置參數。總體而言，DF4是一個用途廣泛、可靠的離子植入器和監控完美的精密離子植入過程在半導體生產領域。它是先進的監測和射頻發生器單元，為精確控制和精確重復的植入過程提供實時反饋。它堅固耐用的結構和可調節的腳部使設備非常適合任何生產環境,而且它的高吞吐量能力為離子植入需求提供了經濟高效的解決方案。