二手 VARIAN E1000 #158386 待售

VARIAN E1000是一種離子植入器和監控器，能夠為要求最苛刻的半導體研究和制造作業實現精確的離子植入型材。VARIAN E-1000的設計目的是將離子植入高電場和高流度水平下，以便將其摻入各種材料中。該植入器具有光束能量分布的高重現性、流線型和能級的監測靈敏度。該設備可以量身定制，以植入介於氫到鈾的正電荷或負電荷的離子種類，而植入物能量和束電流範圍允許獲得各種植入物能量和劑量。通過高效的光束光學，E 1000系統可以在大於12英寸設計極限的基板上產生具有高重復性的嚴格定義種類和能量的光束。光束電流可在很寬的範圍內調節，並在植入過程中保持穩定水平。VARIAN E 1000具有光束分析和成像單元，用於植入物種的表征。這臺機器包含一個用於測量離子電流的石英晶體微平衡以及一個操作模式顯示加速間隙前後光束電流的法拉第杯。植入剖面由創新的雙收集器檢測器（DCD）現場監測。DCD可以測量能量範圍高達40KeV的離子和電子高達1MeV的離子。這種最先進的工具不僅可以調整植入剖面，還可以監測過程中的最佳參數和條件。E-1000采用自監控反饋控制系統，保證植入劑量的最高精度和精確度。反饋控制資產采用法拉第籠作為光束形成和傳感模型的一部分，在降低劑量率和能量擴散變化的同時提高分辨率和精度。這樣可以確保在植入過程中持續保持所需的劑量速率和能量擴散。E1000設備的組成部分包括光束源、粒子加速器、光束光學系統、雙集電極探測器、離子束電流分析儀和光束形成單元。該機還包括一個自動窗口界面，以便於操作。該工具消除了在植入過程中增加操作員的開銷，進一步降低了擁有成本。VARIAN E1000是一個多方面的資產，用於高精度、高效和可重現的離子植入，服務於廣泛的應用。這種模式的先進和創新特點使半導體行業的研究人員和制造商甚至可以開發出最復雜的項目用於商業應用。VARIAN E-1000設計靈活，精度高，精度高，是現代植入要求的理想解決方案。