二手 VARIAN E1000 #181223 待售
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已售出
ID: 181223
晶圓大小: 6"
優質的: 1991
Implanter, 6"
Gas Box: 4X(3.4L x $)
Turbo Pump: Ion source, beamline
Gas Bottle #1: Ar - High Pressure
Gas Bottle # 2: BF3 - High Pressure
Gas Bottle # 3: PH3 - High Pressure
Gas Bottle # 4: AsH3 - High Pressure
Auto set up: Yes
Scan: Disc scan chamber
Wafer handling: Bell jar, 6"
Wafer clamp: DISC, 18 wafers
Ion Source: Dula filament
Accel tube: Yes
HV Power Supply: Accel 1 and 2
Loadlock elevator: 3 sets
Monitor: Operation and service
+/- 7° with electrostatic bias ring, manual disc implant angle
Manual disk implant angle
Plasma flood gun and power supply: 1) Arc P/S: 40VDC, 10A Max, 2) Filament P/S: 8VDC, 75A Max
CSR upgrade:
1) Does/spin/flip control PCB
2) Spin/scan/flip amplifier
Ar beam implant available
Installed in clean room
1991 vintage.
VARIAN E1000是半導體工業中常用的離子植入器和監控器。VARIAN E-1000是為滿足半導體制造過程的嚴格要求而設計的，在摻雜劑植入和離子束混合控制方面效率很高。E 1000采用了光束源、磁性和靜電光學、光束剖面儀等方面的最新創新，使設備為摻雜劑植入等操作提供了高度的精度和精確度。E-1000利用獨特的光束分散系統,為柔性離子束混合創建可變離子分數,從而改進過程控制。此外,E1000的大光束腔室允許快速掃描、高通量以及低成本維護。VARIAN E 1000優化的光束目標工作流能夠提供高質量的摻雜配置文件並提高產率。高級光束位置監視器、復雜的光束電流監視器和實時掃描選項進一步提供了可靠和一致的摻雜輪廓。此外，VARIAN E1000使用多個植入室同時進行離子植入和橫切，通過最小化探針時間和停機時間優化過程。該裝置采用專利專有的真空掃描機，提高了壓力穩定性，最大限度地提高了光束的均勻性和性能。此外,VARIAN E-1000還配備了數字掃描工具,為較低的光束電流提供了先進的偏置和控制功能,並提高了輻照度均勻性。除了其眾多功能外，E 1000還具有復雜的軟件控制功能，包括全面的可視化資產、全面的用戶界面和全面的數據分析包。這些軟件組件為用戶提供了監控植入過程每個階段所需的過程控制和分析功能。總而言之,E-1000擁有一系列先進的功能和軟件功能,為摻雜劑植入提供無與倫比的精確度和精確度,以及無與倫比的工藝控制和產量優化。
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