二手 VARIAN E1000 #9214217 待售
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ID: 9214217
優質的: 1994
High current implanter
Chamber cryo pump: CT-250F
Source dry pump: QDP80
Beam-line turbo pump: LEYBOLD
L/L Rough pump: QDP80 + QMB250
L/L Turbo pump: VARIAN 300HT
Station: Bell jar
Scrubber: VECTOR TECHNOLOGIES
Process gas: BF3, PH3, ASH3
Power: 380 VAC, 3 Phase, 4 Wires, 55 kVA
1994 vintage.
VARIAN E1000是由VARIAN Semiconductor Equipment Associates (VSEA)設計制造的離子植入器和顯示器。它是一種靜電加速器,能夠將各種材料的離子植入平面或彎曲的基板,如晶圓。該裝置旨在提供一種準確、可靠、經濟高效的離子植入過程控制方法。VARIAN E-1000包括兩個主要組件:離子源和離子束監控器.離子源由能夠產生高強度、低能量光束的無膜離子源組成。該裝置配備了可變電流,允許變化的束流和離子能量,允許精確控制植入過程。離子束監測器是一種測量離子束通量和能量的四極質譜儀,並為過程控制提供反饋。除了這些組件外,E 1000還具有多種其他功能,旨在提高流程性能。這些包括一個射束切斷開關、電壓穩定監視器和一個射束電流反饋系統,以允許一致的離子註入。此外,該設備高度自動化,允許無人值守操作和集成到自動化生產系統中。在影響方面,VARIAN E 1000大大提高了離子植入過程的準確性和可靠性。它非常適合用於半導體制造,提供精確的植入控制,否則很難實現。利用該設備,無需人工幹預即可完成植入過程,大大降低了操作成本。此外,該裝置還能夠檢測植入過程中的汙染和其他雜質,從而實現更好的質量控制。總體而言,E1000是一種先進、可靠的離子植入器和監控器.它提供了一種簡單、經濟高效、準確的植入過程控制方法,使生產變得更加高效可靠。這種裝置非常適合半導體制造,並可能繼續成為該行業的重要組成部分。
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