二手 VARIAN E220 #9230245 待售
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已售出
ID: 9230245
晶圓大小: 6"
優質的: 1994
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower
Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type)
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left & right (P.P+ type)
CVCF Option: Interlock
System vacuum:
Ion source chamber: 1.1E-6T
Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7
End station chamber: 1.8E-7
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
Controller
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Make / Model / Description
EBARA / 40x20 / Terminal dry
LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP
LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC
PFEIFFER / - / Resol. TMP
PFEIFFER / - / Resol. TMPC
PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP
PFEIFFER / - / Beamline TMPC
CTI / Cryotorr / End station C/P
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock
EBARA / 40x20 / End station dry
CTI / 9600 / Cryo compressor
Process gas:
High pressure:
AsH3
PH3
Ar(N2)
BF3: SDS X2
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert
Source type: Bernas no vaporizer
Utilities:
Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C
1994 vintage.
VARIAN E220是半導體工業中用於工程薄膜生產的最先進的離子植入器顯示器。該設備采用自校正方法，在監測整個過程中劑量變化的同時，確保精確放置離子。VARIAN E-220使用三種成分，包括離子源、植入室和劑量監測器。離子源用於使光束中的離子向樣品加速。植入室容納樣品，並誘導電場作用於離子，因為它們通過該室。這種電場決定了離子的能量和方向，這對於精確的工程薄膜是必不可少的。劑量監測器用於確保離子的劑量得到控制和監測，以確保其不超過該過程所需的值。E 220包括一個控制離子束電壓水平的電源，以及一個監視光束功率、位置和強度的傳感器陣列。系統還配備了調節粒子擴散的裝置，只允許在一定範圍內的粒子通過。這樣可以確保工藝中使用的顆粒在薄膜生產所需的參數之內。最後，VARIAN E 220設計了一個先進的智能控制單元，可以方便直觀的操作。這使操作員能夠輕松地為薄膜生產設置所需的參數,並密切監視過程,而無需手動調整值。總體而言，E220是一個有效和可靠的工具，工程薄膜生產由於其精確的控制離子放置和劑量，先進的控制機器，和傳感器陣列。此工具允許制造商以最低的成本和工作量精確地設計薄膜。
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