二手 VARIAN E220 #9361402 待售

ID: 9361402
晶圓大小: 6"
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Single wafer E-Chuck Loadlock: Left / Right VAT Gate valve missing Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump (3) Controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Turbo pump Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC CTI / 250F / End station C/P CTI / 9600 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry Process gas: Type / Gas / CGA Outlet HP / AsH3 / CGA 577 HP / PH3 / CGA 578 HP / BF3 / CGA 579 HP / Ar (N2) / CGA 580 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Filament Vaporizer Source magnet Extraction Extraction suppression Analyzer magnet Mirror power supply (Decel) (2) Quadrupole magnets Scan generator controller Mirror Dipole lens magnet Acceleration Acceleration suppression Scan trek power supply Isolation transformer assembly Mirror read back assembly: 60 keV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left and right elevator Dose integrator DI Temperature monitor Options: Beam reducer Decel Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI Temperature: 4°C~21°C Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220是一種功能強大的離子植入器和自動化顯示器,專為要求苛刻的離子植入應用而設計.其易於使用的特性和系統允許準確控制植入過程參數,從而導致基材的高質量和吞吐量。該設備提供多種工藝設置和功能,包括單離子或多離子、可變電壓、外部光束設置、等離子體板以及一系列其他復雜功能。其精密的硬化工具旨在將摻雜劑以高濃度植入基質中,而不會損壞基質材料。該系統還提供了一個通用的植入過程,使其能夠處理各種材料。它配備了內置的高密度傳感器,測量離子電流密度和能量。傳感器可以檢測底物中的離子密度,以維持所需的植入速率。VARIAN E-220具有有效的環境控制,以確保底物的理想條件。其先進的環境控制將減少植入時使用的能量量,提高結果的準確性。該裝置還具有由直流電供電的離子源,無需形成氣體並降低汙染風險。該源包含高效聚焦機,有助於穩定基板溫度。其精密的光束線控制使得E 220成為可靠植入工藝的理想選擇。特殊的硬件,如靜電偏轉器和離子導軌,提供精確控制光束和確保均勻性的植入。自動光束線控制將根據需要自動調整光束大小和形狀,從而實現所需離子的精確有效註入。該工具配有功能強大的軟件,使流程更方便用戶和方便。數據記錄、高級診斷和其他監控功能使跟蹤和分析植入過程變得更加容易。該軟件還支持高級統計分析和可核查記錄。VARIAN E 220是一種用途廣泛且可靠的資產,可滿足先進的離子植入需求。它具有廣泛的特性和功能,非常適合解決涉及多種材料的要求苛刻的植入要求。其先進的硬件和軟件使其成為在高精度水平上實現各種結果的理想選擇。
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