二手 VARIAN E500 #9024963 待售

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ID: 9024963
ESC plate, 8".
VARIAN E500離子植入器是來自VARIAN半導體設備的高性能離子植入設備。它旨在為各種應用提供高通量、準確、均勻的劑量和能量分布。該系統利用最新的質量聚焦磁體技術進行可靠的波束脈沖長度控制,並利用先進的數字目標電源進行精確的能量控制。該單元可從14「擴展到30」,配有全方位的配件,最大限度地提高吞吐量。VARIAN E 500利用熱燈絲離子源獲得最大的光束電流,即使在低能量下也是如此.電子壓縮機允許非常快的束脈沖,能夠在不犧牲通量的情況下精細控制劑量水平。利用靜電透鏡機進一步增強光束控制,優化光束形狀和位置。在法拉第杯中使用電子探測器對光束進行監控,這樣就不需要外部靜電計了。E-500由兩個子系統組成:植入工具和subfab監視器。植入資產包括石英室、離子源、加速管和真空系統,以及質量聚焦模型。監視器使用專門設計的基板支架牢固地固定基板,並使用劑量控制單元調節植入過程。光束電源和光束電流監測器可以準確控制劑量和能量水平。E 500專為高批量生產矽和III-V材料而設計,最大劑量率超過400 A/cm2/秒。該設備提供了廣泛的植入參數,並且可以根據各種材料量身定制,提供無與倫比的準確性和均勻性。VARIAN E-500可以處理高達12英寸的晶片,並利用高性能的源到目標距離控制進行精確的效率控制。E500監控系統提供精確的植入監控和均勻性控制,確保產品質量最高。實時顯示精確的光束和劑量電流讀數,便於過程監測和調整。高級診斷和過程監視工具(如Live-View和OD-View顯示屏允許快速輕松地診斷設備故障。VARIAN E500是來自VARIAN Semiconductor Equipment的先進、用戶友好的離子植入機。VARIAN E 500憑借其可靠的光束控制、精確的劑量和能量控制以及高性能的生產能力,是半導體材料大批量制造和均勻性控制的理想選擇。
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