二手 VARIAN E500 #9085170 待售
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ID: 9085170
晶圓大小: 6"
優質的: 2005
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: front panel
Production wafer qty: single wafer
Platen type: M-clamp
Load lock: Left, right (walkout sensor)
System Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Terminal dry: Ebara 4020
Source TMP: Seiko STP-1000C
Source TMPC: Seiko STP-1000C
Resol TPM: Seiko STP-301C
Resol TMPC: Seiko STP-301
Beam line TMP: Seiko STP-1000C
Beamline TMPC: missing
Endstation C/P: CTI On-Board 10F
Compressor: Suzuki
Load lock TMP: Varian CTI100
Load lock TMPC: Varian CTI100
Endstation dry: Ebara 5020 + boost
Process Gases:
AsH3: SDS type, VCR 1/2"
PH3: SDS type, VCR 1/2"
BF3: SDS type, VCR 1/2"
Ar(N2): DISS type, CGA 580
Power Supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: missing
Source Magnet: 20V, 50A
Extraction: missing
Extraction suppression: missing
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max 150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
(2) Quadrupole Magnet: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Mirror: missing
Dipole lens magnet: 40v, 125A (Max 150A)
Acceleration: missing
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Acceleration stack: missing
Controller:
Left Arm Servo
Right Arm Servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt Servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Linear motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp Monitor
Terminal PD DC PS: missing
Options:
Beam energy probe: yes
2_step beam reducer: not used
Auto decel: missing
Gas box type: HP (2 SDS bottles, insert)
Soruth type: Bernas
Faraday type: Varian scanning Faraday
Vaporizer PS: none
Utilities:
Power: 208VAC, 3 phase, 5 wires, 43.2 KVA, 120 FLA
Air: 100 ~ 150 PSI
N2: 40 ~ 150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, 4-21°C
High Voltage Range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
1995 vintage.
VARIAN E500是一種高性能的離子植入器和顯示器,旨在滿足各種離子植入要求。它利用節省空間的單源電源,可以處理1 keV至10 keV的離子束能量。VARIAN E 500采用模塊化設計,結合了低能量精密植入能力和高離子電流。這種卓越的靈活性為各種半導體器件制造操作提供了最大的生產力。除了模塊化設計外,E-500還采用了最新一代的VARIAN串聯技術,提供高精度、高效的離子註入不同的晶圓尺寸和材料。它采用了高度先進的串聯技術,創造了增強的光束均勻性、時間控制和精度。VARIAN E-500′s控制設備使用最新的高級VARIAN ACCeDirect (ActiveConfigured Control),它提供了全自動的錯誤監控系統。借助ACCeDirect單元,E 500可以通過各種傳感器輕松監測,包括植入物末端監測,以及光束脈沖持續時間和光束定位反饋。此外,該機還提供先進的數據分析和控制功能,有助於在生產過程中保持峰值光束的均勻性和精度。E500′s種電源工具包括一個強大的射頻電源,具有高達10kW束的能量。這與它的模塊化設計相結合,使它能夠在高電流下植入低能離子。這使得VARIAN E500產生的劑量率明顯低於大多數其他商用離子植入器,使其成為生產級離子植入過程的理想解決方案。VARIAN E 500采用IEEE-488通信標準構建,使其能夠輕松與其他類型的生產設備集成。它還得到了VARIAN承諾提供最高級別工程支持的支持。總體而言,E-500是一種功能強大但效率高且用戶友好的離子植入器和監視器。它以可調光束能量和精確控制選項提供了優異的植入能力和生產率。此外,它與各種設備兼容,並提供了一個開放的體系結構,可輕松集成到現有的生產過程中。VARIAN E-500是任何需要高性能等離子體離子植入器的半導體制造設施的理想解決方案。
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