二手 VARIAN E500 #9206611 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9206611
優質的: 1993
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left, right
No CVCF Option
System vacuum:
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump & (3) controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC
CTI / 250 / Endstation C/P
CTI / 8500 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / 5020+boost / End station dry
Process gas:
AsH3: HP Type, VCR 1/2"
PH3: HP Type, VCR 1/2"
BF3: HP Type, VCR 3/8"
Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line)
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~70 keV
Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV
Power supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator controller: -30kV, 10mA
Mirror: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA
Scan trek power supply: 30 kV
Isolation transformer assy: 70 kV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
No beam energy probe
No 2 step beam reduser
No auto deceleration
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 psi
N2: 40~150 psi
Cooling water: 60~150 psi
Temperature: 4~21°C
Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA
1993 vintage.
VARIAN E500是一種離子植入器和顯示器,設計用於半導體器件制造、等離子體蝕刻和離子植入過程。它是實現設備級控制和高能量植入應用的通用工具。此外,VARIAN E 500還提供了一系列的過程和控制功能,可用於各種不同類型的植入過程。該系統采用專利的三結設計,準確地引導離子進行植入。為植入樣品的精確定位配備了雙軸級設計。這是使用機械編碼器和板載計算機實現的,使機器能夠在適當的植入區域準確定位樣本。E-500能夠植入砷、硼、磷和喹。也可用於在高能植入結構中植入磷。E500能夠提供多種劑量,以便制造商能夠為所有物種設置植入參數並跟蹤多種數據。它專為監測植入過程而設計,具有檢測樣品中任何故障或缺陷的能力。這有助於避免可能造成的損害,否則會對成品造成不可逆轉的損害。它還能夠監測每個植入周期室內的溫度,必要時進行相應調整。VARIAN E-500配備了創新的遠程訪問功能,用戶可以從任何地方監視系統。此功能對於那些在植入過程中無法實際到達機器的用戶非常有用。通過這一功能,可以遠程完成人工輸入,並且可以遠程訪問植入過程中收集的數據。總體而言,E 500是一個強大和可靠的植入和控制工具,用於建立和建立高能量的過程。它提供了廣泛的流程和控制功能以及遠程訪問功能,使監控和調整植入參數變得更加容易。這使得VARIAN E500半導體器件制造、等離子體蝕刻和離子植入過程的理想工具。
還沒有評論