二手 VARIAN EHP-500 #9015612 待售
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ID: 9015612
晶圓大小: 8"
優質的: 1998
Medium current ion implanter, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: 8" plastic Miraial
No SMIF interface
Power distribution: 208 V, 60 Hz, 75 kVA, 3 phase Y-connection
Control system: 1 GHz computer
Software version: 13.43.29
Beam energy:
5-250 keV (single charged ion)
250-500 keV (double charged ion)
500-750 keV (triple charged ion) auto accel/decel mode
Gasbox 1: Ar HP external supply
Gasbox 2: BF3 HP
Gasbox 3: ASH3 SDS
Gasbox 4: PH3 SDS
Cryo pump: Daikin MARATHON-12 V28MC612SMR
Cryo compressor: Daikin U108CW
TMP: Edwards STP-1000C
TMP 2: Edwards STP-1000C
TMP 3: Seiko STP-300C
TMP 4: (2) Varian V-300HT
Ion source: Bernas type, W-Arc chamber
No dual vaporizer
No beam reducer
Platen: E-CLAMP composite
1998 vintage.
VARIAN EHP-500是一種離子植入器和監控器,能夠生產和控制各種表面處理,使各種制造商能夠加工具有各種物理特性的材料。它具有集成的石墨聚焦器、擴展深度的電子微型離子源和獲得專利的絕緣離子源屏蔽設備。VARIAN EHP500中強大的石墨聚焦器能夠在基板的近、遠表面提供高均勻功率密度，提供比同類系統更高的精度和控制。此外，擴展深度的迷你電子離子源允許更大範圍的能量工作與，以及增加深度的滲透和均勻性。獲得專利的絕緣離子源屏蔽系統在材料表面提供了更加一致的處理，進一步提高了精度和可重復性。EHP 500具有多種可定制的參數,可幫助用戶從底物處理中獲得所需的結果。這包括全範圍的掃描參數,如掃描頻率、幅度、掃描速度和駐留時間,以及可調節的特征參數,如修剪尺寸、聚焦器深度、間隙時間和晶圓時間。此外，該設備還有一個功能強大的流程監視器，可以即時評估治療進度，使用戶能夠根據需要進行必要的更正和調整。EHP500還具有多種安全功能，以確保最大限度的生產力和人員保護。它配備了在電壓、負載或異常電流丟失時發生的過載保護單元，並在存在任何不安全條件時自動關閉。此外,還會對設備的軟件進行連續監控,以便在硬件發生事故或故障之前對其進行檢測。總之，EHP-500是一種高效、可靠的離子植入器和顯示器，為用戶提供精確、可重復的表面處理和眾多可調參數，以實現最大控制。其強大的石墨聚焦器、擴展深度的電子迷你離子源和絕緣離子源屏蔽機提供了無與倫比的精度和多功能性，而內置的過程監視器和安全功能則確保了最大的安全性和生產率。
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