二手 VARIAN EHP-500 #9092902 待售
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ID: 9092902
晶圓大小: 4"
優質的: 2001
Medium current ion implanter, 4"
Rotating, uncooled platen with silicon-coated 6-point clamp
(225) Wafer capacity highly polished load locks
Tungsten Bernas Ion source
HP gas box
Inert (Ar) connection
2-Stage low beam aperture
Ion beam filter
End station pumping: (2) varian 300HT loadlock turbo, (1) CT-10 chamber Cryo
Metals reduction kit
Si-coated acceleration column
Graphite target chamber side wall shields
Resolving chamber cold cathode vacuum gauge
V11 S/W, real time beam, purity check S/W
SECSII host communications
2000 vintage.
VARIAN EHP-500是半導體工業的離子植入器和監控器。它能夠以嚴格的精度生產高能摻雜粒子，同時還能提供可靠的準確性和監測選項，以確保實現所需的植入率。植入器具有集成電源，電流精度高，穩定性高。它能夠在摻雜粒子上提供多達20個微安放的一系列能量，並能吸納高達36,000瓦的功率。在這些級別上，VARIAN EHP500可以很容易地註入和監測1-500KeV範圍內的高能元素。這使植入者能夠量身定制不同摻雜劑的植入物，以滿足特定的應用要求。EHP 500還使用離子束能量控制和監控軟件，允許在植入前和植入過程中輕松驗證束的能量輪廓。操作員可以利用這個軟件來管理多達九種不同的光束能量和不同的持續時間，以達到最大的植入精度。此外,該軟件還提供實時診斷反饋,以幫助優化過程。除了強大的植入能力外，EHP500監控器還提供原位離子物種監測和高速數據收集及沈積過程分析。其質譜檢測器緊密集成在系統中，用於離子束的分析和控制。該監視器以10nm分辨率測量植入物深度的範圍，使操作員能夠在各種基質上定制植入物深度和能量。EHP-500旨在保證半導體植入物生產的準確性和可靠性。它的電源和軟件為用戶提供他們需要的精確控制和反饋，以確保植入物按照最高標準生產。
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