二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON FBR II / HPS-T001 / HT II #9187207 待售
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ID: 9187207
優質的: 1996
Ion implant system
High voltage power supply
HV FBR HPS
Accel: +120KV x 50 mA
Decel: ±60KV x 50 mA
Isolation: 115/230V
Line: 208V
FBR Unit: FBR11
E1 HV Unit: HFT11
E2 HV Unit: HFT12
Isolation transformer unit: HT11
Single phase
50/60 Hz
4 kVA
Primary: 208V
Secondary: 115/230
1996 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON FBR II/ HPS-T001/HT II是半導體制造設備領先供應商TEL開發制造的離子植入器和顯示器。該裝置旨在提高半導體器件生產的速度和精度。FBR II是利用法拉第籠式技術的高效可靠的離子植入器和監控設備。它具有增加離子電流精度的垂直法拉第籠和獨特的螺旋感應透鏡,該透鏡以均勻的方式分散離子,最大程度地提高了應用室內的均勻性。FBR II的高精度、可靠性和速度為半導體器件生產提供了快速、精確的工藝。除了離子植入外,FBR II還具有內置的監控系統。這個監控單元在工具內使用了多種傳感器和信號,使其能夠測量溫度、汙染和基板特性等各種參數。監控機可用於提高整體工藝精度和預測潛在故障。FBR II還具有廣泛的附件和組件,允許進行各種半導體器件制造應用。它可用於多種工藝,如植入、光敏帶、退火、真空沈積和晶片測試。FBR II還包括一系列其他組件,如基板傳遞機構、直列基板加熱器和可編程漂移螺釘。總體而言,TEL FBR II/ HPS-T001/HTII是一種高效可靠的離子植入器和監控工具,可用於提高半導體器件生產的速度和精度。它具有先進的法拉第籠子和獨特的螺旋感應透鏡,可提供精確度和可靠性,內置監控資產,可幫助進行過程控制和維護,以及一系列有用的附件。所有這些功能都有助於FBR II在一系列半導體器件制造應用中的可靠性和有效性。
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