二手 VARIAN VIISion 80 #9039557 待售

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ID: 9039557
High current ion implanter, 8" Safe Gas Delivery System Cryo, fourth implant chamber SECS II automation Two dimensional beam profiler Angled implant, automatic Classic End Station With the addition of: Zero integral magnetic faraday Includes: +7 to -7 degree wafer tilt angle. Plasma flood gun. Horizontal wafer handling. Full system automation. Operator touch screen. Tungsten Bernas ion source. Silicon coated disc and spillover cup. 3 light signal tower 1995 vintage.
VARIAN VIISion 80是一種用於半導體和微電子生產的高能、高通量離子植入器。它設計用於必須嚴格和準確地控制離子的植入劑量、能量和流度的應用。VIISion 80使各種材料的離子植入具有各種光束配置,具有極好的均勻性和可重復性。VARIAN VIISion 80利用四極管、平行電子槍和分束陰極裝置,提供高達80kW的離子註入能量。該槍以5-200 kV的中性能量運行,並提供最大15mA束電流。該槍能夠輸送2至254 amu的離子,能量範圍100 keV至最大80kV。離子束光斑大小可配置在0.3-1.0mm之間。該設備具有高容量電源模塊,可提供可靠、可重復和高度精確的植入能力。它還提供了用戶可定制的植入物配置文件,允許優化的離子植入物操作。該系統包括掃描光束電流控制,可實現可重復、均勻的植入效果.VIISion 80還具有獨特的監控單元,允許測量和控制背景電流、腔室性能、光束電流和植入物均勻性。這種監控機器對於確保高精度、可重復的植入操作至關重要。監視器工具提供了許多自我診斷功能,可以提醒操作員註意任何異常或錯誤。最後,VARIAN VIISion 80的設計考慮到安全性,它具有安全互鎖資產,可阻斷對高壓組件的訪問,並具有接地連接,以確保充分的電氣安全。該模型還包含幾個硬件和軟件組件,這些組件旨在確保可靠的操作並降低受傷風險。總之,VIISion 80是一種高度精確的離子植入器,能夠在廣泛的能量範圍內輸送離子,並利用獨特的監測設備來確保可重復、均勻的植入物操作。該系統設計為操作簡單,但高度可靠和安全。VARIAN VIISion 80以其最先進的電源,非常適合半導體和微電子生產。
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