二手 VARIAN VIISta 810 HP #9191582 待售
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ID: 9191582
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Medium current implanter, 12"
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (For implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60° in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X and Y Tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C at 800W Beam power
300 mm: ≤100°C at 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (Mean value) for particle size > 0.16 µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80 keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20 kV, M/ΔM = 50
Energy > 80 kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (With buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2002 vintage.
VARIAN VIISta 810 HP是一款先進的離子植入器和顯示器，旨在對植入過程提供異常精確的控制。該植入器用於半導體和電子工業，能夠提供快速、可重復和可靠的性能。VARIAN VIISTA 810HP由強大的驅動設備和精選的專有軟件提供動力,可執行高級植入操作。它的高壓源提供高達3安培的植入物功率，可選的光束電流範圍為2-500 }A。對於需要更高溫度的操作,此模型還可以安全地容納高達200 °C的溫度。該植入器還具有兩個獨立的光束分析系統，一個測量光束電流，另一個測量角度。這允許高精度植入操作，並允許先進的過程，如選擇性發射器摻雜和陡角植入。在性能方面，VIISta 810 HP具有優異的吞吐率，實現了高達每小時40萬晶圓的植入吞吐量。其高速部分歸功於其全新的進料腐蝕墊設計，防止了顆粒堆積，確保了高品質的植入物。植入器還具有遠程監控系統，允許用戶訪問儀器的數據並進行遠程調整。此功能還允許在需要時對設備進行方便的遠程診斷和修復。總體而言，VIISTA 810HP是一款先進的植入機，旨在為半導體和電子行業提供卓越的植入精度和質量控制。它具有高壓、大功率運行和兩個獨立的光束分析功能,以及遠程監控工具和令人印象深刻的吞吐量速率。這種植入器肯定是任何工業植入操作的可靠和經濟高效的工具。
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