二手 VARIAN Viista 810 #62638 待售

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ID: 62638
Medium current ion implanter, 8" CE Marked Energy Range: 5 – 810 keV Dose Range: 1xe11 – 1xe16 Programmable Tilt Angle: +/- 60deg Source Type: IHC Source Tungsten Cassette Interface: 2 Bolt-On Asyst LPT-2200 PRI Robot Handler Chuck Type: Gas Cooled ESC (Composite Platen) Options: Low Energy upgrade Thru Beam Wafer Mapping system DELL Server (IAN) VESDA Smoke Detector system (Laser Plus) GEM / SECS Std Network Comm. Capability End Station Cryo Pumps: Process Chamber: 3 Brooks/Helix OB-250F Scan Chamber: Brooks/Helix OB-250F Turbo Pumps: Source Turbo: Pfeiffer TPH 521 YP without Gate Valve Service PC Beam Line Turbo: Pfeiffer TPH 521 YP Left Load-Lock: Pfeiffer TPH 521 YP Right Load-Lock: Varian V300C Gas Configuration: AsH3 - SDS PH3 - SDS BF3 - SDS Ar (N2) - HP XE (N2) - HP Software: NCS / IAN: Win2k pro VCS: v 6.70 SP3 V 208, 3-Phase, Freq 50Hz 2001 vintage.
VARIAN Viista 810是集成離子植入器和監視器。Viista 810由離子植入技術的領導者VARIAN開發,並在這個高度專業化的領域擁有60多年的經驗,在離子植入和監測的關鍵領域提供了更強的能力。在其核心,810是一種高性能的離子植入器。它能夠以極高的精確度在各種材料中植入多種物種和能量,創造出比以往更高的吞吐量。通過使用高度聚焦的光束、加速電壓和先進的光學器件,與市場上的其他機器相比,810提供了更高的控制範圍和精度。此外,810每秒最多可植入40個離子,總電流負載高達400毫安。然而,VARIAN Viista 810真正出色的地方是它令人印象深刻的監控能力。本機采用原位光束發射光譜(IOES)傳感器,實時測量離子能量和其他光束特性。這一級別的控制讓VARIAN開發並實現了先進的控制算法,保證了植入層的均勻性和可重復性。此外,810配備了最先進的高度控制系統。通過將最大加速度電壓提高到30 kV, Viista 810保證了光束角度的恒定控制,從而實現了更高的旋轉跟蹤精度-即使在高傾角下也是如此。如果檢測到危險的光束狀況,這種尖端系統還能提高植入過程中的安全性。這有助於降低人為失誤的風險,並顯著提高生產效率和質量。綜上所述,VARIAN Viista 810是一款集成的離子植入器和顯示器,與市場上的其他型號相比,可提供更強的控制和精度。它的原位光束光譜傳感器和自動關閉安全功能提供了前所未有的控制水平,最終有助於降低植入過程中發生人為錯誤的風險。
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