二手 VARIAN VIISta PLAD #9262785 待售

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ID: 9262785
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
Ion source implanter, 12" Single wafer pulsed plasma doping system, 12" Includes: Diborane RF process chamber, 12" Small WIP buffer, 12" BF3 Process chamber DC Power supplies: Pulse width: Up to 200 µs at 10 kV Pulse frequency: Up to 10 KHz at 10 kV 2005 vintage.
VARIAN VIISta Plasma Implante rand Monitor是一款用途廣泛、功能強大的離子植入器和顯示器,用於半導體集成電路制造領域。它能夠以高精度和高精度的方式將離子植入基板,並通過最先進的原位診斷監測植入參數(如束電流、電壓和劑量)。VARIAN VIISta配備了五軸坐標運動階段,實現高精度光束對準和晶圓等基板的連續加工。私有部門軟件包允許精確控制光束設置,允許用戶根據正在制造的半導體設備的類型定制過程。此外,VARIAN VIISta還配備了10個目標等離子體發生器,允許植入多種離子。先進的離子診斷直接集成到機器中,包括多目標解吸力分析儀,可以對摻雜劑濃度和能量深度分布進行精確監測。另外,能量擴散分析儀提供了高度詳細的能譜.這種先進的監控系統允許用戶獲取關於植入參數的反饋,並實現優化和修改,以實現對離子植入過程的精確控制。VARIAN VIISta與它的準分子激光源一起,是一種極為高效的精密離子植入工具,允許制造過程中前所未有的準確性和可重復性。其先進的診斷和軟件控制套件允許用戶微調半導體器件制造中的離子植入過程。它為開發者提供了一個有效的平臺來優化他們的過程以提高速度、準確性和產量。
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