二手 CUSTOM Ion Beam Depostion #9140925 待售
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單擊可縮放
ID: 9140925
優質的: 1987
System
Internal dimension: 41.5" x 27"
(1) Ion Tech MPS5001 power supply
(1) ION TECH 15cm ion beam gun
Substrate rotation system: Two sets at different coating distances. The upper is 3 planets of approximately 6.5" squares. The lower 3 planets of approximately 6" diameter.
(2) Crystal thickness monitors, one for each of the planetary tooling sets.
Sputtering Target: Max of 2 materials at a time, 10" x 10".
Materials previously used: TiO2, SiO2, HfO2, Si, Al203, B, Ta Cryopump and compressor have been removed. When unit was hooked up to pump and running, the pressure was 2x10-6 Torr and pump-down time was approximately 4 hours.
Valves and controls: Gas metering valves, mass flow controller.
Does not include: Cryopump and compressor or substrate heaters.
1987 vintage.
CUSTOM離子束沈積（Ion Milling）是在真空環境中離子沈積到基板表面的過程。離子是由一束電子束產生的，這些電子束朝著基材中的目標材料加速。然後離子通過銑削室中存在的電場和磁場以高達每秒幾百公裏的速度穿過基板。銑削過程受到高度控制,可在納米級和/或超薄膜和材料的制造中廣泛應用。離子束沈積（IBD）本質上是物理氣相沈積（PVD）的一種形式，其中離子銑削設備提供的一束離子束將材料沈積在基板表面上。這種沈積方法更為精確，允許以兩種方式之一對材料進行CUSTOM沈積。第一種稱為離子輔助沈積，其中離子在沈積過程中為目標材料通電，使其更容易粘附在基質上。第二種稱為離子增強沈積，由於離子密度的增加和束材料向基質擴散的增加，增加了沈積速率。IBD系統通常具有一些常見的組件，如離子源、基板、沈積室真空系統和光束生成單元。離子源是產生離子束的裝置。這通常是高壓負離子源。底物可以是任意數量的材料，如金屬、半導體、玻璃和聚合物。將基板插入真空室中，然後將其泵送至接近真空水平，以便對沈積過程進行高度控制。光束產生機是使離子束向基板加速的裝置。此工具通常使用電磁場和/或靜電聚焦元件來控制光束動力學。一旦離子到達基板，它們就會被嵌入，形成納米復合材料層。沈積過程是一個微妙的過程，從壓力、電流和磁場強度等精確參數的角度密切監測。可以精確控制沈積層的厚度，以及層數和沈積速率。CUSTOM離子束沈積是一種用於制造CUSTOM納米級材料的通用工具,能夠創建幾乎所有材料的CUSTOM層。IBD可以為MEMS、光學和摩擦學元件等應用提供材料，以及分子的高度有序陣列。隨著研究人員不斷嘗試和創新CUSTOM離子沈積，這一過程實際上還處於起步階段。
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