二手 FEI Helios NanoLab 1200 #9312072 待售

ID: 9312072
Wafer dual beam system Does not include Hard Disk Drive (HDD).
FEI Helios NanoLab 1200是一種通用的離子銑削系統,可用於操縱包括晶體和聚合物納米粒子在內的多種材料的表面。它是一種先進的離子源,能夠產生15-200 nm範圍內的納米級尺寸修改。該系統配備了高扭矩電動微操縱器和物鏡,可以將聚焦離子束(FIB)光束精確定位到目標位置。顯微鏡的納米到微米分辨率允許容易的可視化和表征樣品表面形態。離子束誘導的高達2000 oC的加熱也可用於創建熱微結構,如納米到微槽。Helios NanoLab 1200配備了幾個離子槍源以最大化系統的多功能性。主要的來源是液態金屬,這些金屬被引入加熱的熔爐,在FIB的轟擊下,液態金屬被汽化和電離,然後離子指向樣品。或者,氣相離子和汽化液態金屬離子可以註入離子閥。這種離子閥還被用於輸送能夠傳遞精確離子束形狀和大小的分子離子,從而提供高長寬比結構。然後可以調整離子束以達到所需的表面地形或用於離子成像目的。FEI Helios NanoLab 1200中使用的雙壓電掃描儀允許對樣品表面進行快速、三維成像和銑削。可用於精確控制工作距離、視場、電壓等成像參數。此外,它還能夠快速準確地對樣品進行表征,並制造出精確的結構.此外,Helios NanoLab 1200還采用了集成成像和分析工具,用於樣品表面的化學、元素和結晶特性。它還具有先進的過程自動化功能,從離子束銑削到樣品沈積,以及一個完整的以太網接口,便於聯網和遠程操作。憑借其最先進的功能,FEI Helios NanoLab 1200是用於創建復雜納米結構的可靠且通用的工具。
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