二手 FEI Helios NanoLab 400 #9194575 待售

FEI Helios NanoLab 400是一款提供高分辨率、三維表面分析和精確樣品制備的多功能離子銑削設備。高性能系統提供可變腔室壓力、高沈積速率和卓越的離子銑削能力。這使得研究人員能夠獲得可重現的、精確的納米尺度深度剖析和用於各種應用的表面準備。Helios NanoLab 400銑削單元由離子源、掃描電子顯微鏡（SEM）、高真空室和精細的計算機控制機器組成。離子源產生原子大小粒子的高能束，然後被引導到樣品上。在SEM中,使用梁檢測樣品的形狀、大小和化學成分。高真空室將樣品從外部環境影響中分離出來。Helios Nanolab設計用於提供精確、可重復和受控的去除和沈積過程，以制備各種樣品。其高級特性包括脈沖拋光工具、雙離子束資產和多維掃描。可分離的離子束有助於精確控制蝕刻和濺射的範圍和深度。多維掃描可確保在從地形到元素組成的各種層次上對樣品進行檢查。此外，該模型可以對材料和器件的表面結構進行高分辨率成像、化學表征、深度剖析和橫截面分析。FEI Helios NanoLab 400還配備了一系列先進的離子蝕刻源，如熱、化學和機械源。這使得研究人員能夠對樣品表面進行精確的修改，以利於納米加工和創建復雜的3維結構。Helios NanoLab 400的可調腔室壓力也支持各種過程，讓研究人員對廣泛的樣品達到最佳效果。此外，雙級真空室通過消除多個腔室斷裂來增加設備的樣品制備時間，以準備樣品進一步檢查。由於雙層腔室壓力，樣品制備過程可以高精度、高效率地進行。FEI Helios NanoLab 400獨特的設計、高精度的工程、精密的計算機控制系統為研究人員尋找可靠、易於操作、先進的表面分析和制備單元提供了一個功能強大、用途廣泛的工具。