二手 FEI Helios NanoLab 400 #9233567 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9233567
優質的: 2008
Dual beam FIB system Module: PFA Operating system: Windows XP 2008 vintage.
FEI Helios NanoLab 400是一款最先進的離子銑削設備,設計用於制造具有納米級分辨率的超細結構。該平臺非常適合材料科學、納米技術、微電子、材料工程等領域的研究應用。該系統具有自動化的樣品加載、銑削和卸載功能,提供卓越的樣品準備功能。NanoLab的腔室配備了超高真空,可實現最高的表面完整性和銑削精度。此外,低能離子束和強大的離子槍,加上可編程的氣體端口,都使Helios Nanolab成為創建各種詳細微觀結構的理想裝置。該機采用計算機控制的舞臺和采樣舞臺操作工具設計。這可以精確控制樣品的定位,以及各種表面修改技術,如濺射和侵蝕。此外,該資產還能夠利用離子束光刻和熱處理技術創建高精度的形狀和圖案。NanoLab 400配備了高級成像和分析功能,允許用戶監視和解釋樣品的物理特性。該模型包括高分辨率相機、集成光譜儀和顯微鏡,以及自動化圖像分析設備。這種組合有助於研究人員準確觀察和測量樣品的個別特征,以確定其性能和穩定性。總體而言,Helios NanoLab 400是用於創建詳細納米結構的高精度技術解決方案。該系統需要相對較短的時間才能產生優異的效果,能夠同時進行單步和多步過程控制,並且易於集成到現有的實驗室環境中。
還沒有評論