二手 FEI Helios NanoLab 400 #9285570 待售

FEI Helios NanoLab 400是一種Er/FIB雙光束設備,能夠將材料精確磨蝕到納米級。聚焦離子束（FIB）和電子束（EB）系統的金標準，FEI Helios是一種備受追捧的離子銑削系統。利用同時電子源和離子束源，像傾斜樣品環境這樣強大的特性成為標準，擴大了更復雜的3D燒蝕場景的能力；對先進的分析和材料科學項目表示歡迎。Helios NanoLab提供出色的分辨率,改進了其他控制系統,可實現更大的x-y控制,清晰明了,可實現細致、精確的超精細銑削應用。利用靈活的光路，各種檢測器可以專門切換，以優化成像性能和用戶體驗。NanoLab 400還運動原子分辨率X射線熒光（XRF）光譜，允許快速無損的微量元素分析。鑄造精度和整體磨損性能使Helios NanoLab 400成為進行精密納米加工的研究人員和科學家的理想設備。Helios公司采用超穩定電子光學技術進行STEM等定性技術，為大型和小型研究項目提供了能力。利用EB和FIB光束作為鑲嵌在同一基板上，顯微鏡可以獲得比以往任何時候都更高的分辨率，從而根據樣本量，實現高達一百萬倍的空前放大能力。Helios機器由於其低漂移和先進的光束監測和校準工具,即使在高能銑削過程中也能實現近乎瞬時的校正和分辨率響應,因此備受追捧。對於高通量樣品磨損和分析,FEI Helios NanoLab 400的雙光束柱和1納米以下的頂點分辨率提供了無與倫比的性能,使其成為納米結構、銑削、成像和分析等應用的理想資產。