二手 FEI Helios NanoLab 400 #9363526 待售

FEI Helios NanoLab 400是一款功能強大的離子銑削設備，可用於制備用於高分辨率成像和其他表面分析的樣品。它利用離子束源在受控的、接近單原子的稀釋過程中從樣品表面濺射材料。可以調整濺射的程度,以確保去除頂部幾納米的材料,而不會損壞樣品幾何形狀和所需分辨率所確定的底層結構。該系統提供了精確和可重現的材料稀釋到0.1 nm每深度步長，而表面沒有退化。Helios NanoLab 400結合了高度可變的舞臺運動單元和路線/精細檢測器，用於精確的樣品定位和分析。掃描階段可以停放在四個預定義的位置，允許機器處理不同的取樣方向和大小，同時保持較高的位置重復性。集成的粗/細探測器允許用戶將樣品精確定位在預定的斑點，便於精確定位樣品表面的特征。該工具還提供了一系列分析技術來確定濺射材料的組成和方向。集成加速電壓控制功能提供了從0.1到2.0kV的一系列加速能量，允許用戶根據樣品特性和樣品材料量身定制銑削過程。FEI Helios NanoLab 400還提供了氧活化模塊的附加功能，可用於激活樣品表面以獲得更高的成像分辨率。此外，在任何不安全的情況下，集成的安全聯鎖功能都可以安全地關閉資產。總體而言,Helios NanoLab 400是一種易於使用且高度復雜的離子銑削模型,可提供精確且可重現的稀釋,用於高分辨率成像和表面分析。它旨在與各種樣本類型、大小和方向兼容。它還提供多種功能,以最大限度地提高安全性和優化性能。