二手 FEI Helios NanoLab 400S #293729607 待售

ID: 293729607
優質的: 2010
Focused Ion Beam Scanning Electron Microscope (FIB-SEM) Detectors: ETD, TLD, STEM Omniprobe manipulator Stage tilt: +60° / -3° Stage rotation: +180° / -180° EDS system: EDAX Apollo XL 30 mm² PC Keyboard 2010 vintage.
FEI Helios NanoLab 400S Ion Milling Equipment是一種可靠和通用的工具,用於制備透明光學器件的精細表面,如Si、GaAs、石英和其他材料。該系統由一個裝有用作基板支架的超平膜的屏蔽超高真空室、光束操縱室和發電機組成。它還包括一個用於樣品加載和定位的階段,以及一個用於誘導紫外線光敏層的紫外線源。Helios NanoLab 400S離子銑床能夠為各種濺射/沈積材料提供高濺射速率和低沈積速率,並且可以在高真空和低真空環境中運行。機器由直觀、用戶友好的界面控制,允許用戶為每個應用快速調整和定制銑削過程。FEI Helios NanoLab 400S離子銑削工具使用一束離子從基板上蝕刻掉不需要的材料。離子加速到高能,並指向底物。離子束以受控的速率侵蝕材料,形成一層薄薄的層,可以用電子束光刻或其他技術進一步操縱。資產配備了一系列檢測器,可幫助不斷監控模型的性能。Helios NanoLab 400S離子銑削設備能夠在直徑可達15毫米的基板上產生極其精細的特性。此外,它還能夠為基板制作寬度可達10厘米的圖樣。該系統可以同時處理單層和多層光刻膠層,並且可以處理各種蝕刻速率和深度。這允許靈活的電子應用,如互連、無源元件和其他精細螺距結構。最後,FEI Helios NanoLab 400S離子銑削裝置易於維護和操作,可以快速重新校準以滿足各種應用的要求。憑借其廣泛的功能和可靠性,它是一個非常詳細和精確的蝕刻過程的理想選擇。
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