二手 FEI / MICRION 9500 EX #9150796 待售

ID: 9150796
Focused Ion Beam (FIB) system I-Gun type: 5nm Column Beam current: 3pA~931pA (50kV) Depo system: Tungsten Tmcts O2 H2O Cl2 / Br2 XeF2 Vacuum types: Turbomolecular pump (2) Mechanical pumps (2) Ion getter pumps Stage type: 200 x 200 mm Loadlock type: Loadlock system PS / OS: IBM RISC System / 6000 43P Model 140 computer / AIX 4.1.5 Detector: MCP.
FEI/MICRION 9500 EX離子銑削設備是為制造納米級結構和部件而設計的先進離子銑削設備。它能夠利用低能量、高離子加速度的遠束電流產生復雜的表面結構。它使用了移離子束來精細研磨各種材料的表面,包括金屬、陶瓷和半導體。該設備還能夠產生具有緊密公差的3D納米結構。FEI 9500 EX離子銑削系統采用聚焦掃描離子束,可產生特征小、精度高的表面。該設備具有高度用戶友好的界面,允許用戶根據需要輕松調整參數。它還配備了XPS分析機來監視銑削進度,使用戶能夠驗證曲面並快速調整銑削步驟以獲得所需的結果。在離子銑削工藝方面,MICRION 9500 EX提供了廣泛的離子,包括的範圍很廣,其上包括的離子變更(Ga+)、霓氣(Ne+)、氙氣(Xe+)、氦氣(He+)、鋁(Al+)、硼(B+)和鈦(Ti+)。離子銑削過程精確,允許對樣品表面上的離子束進行精確的橫向控制。此外,此工具還提供多種操作參數,如加速電壓、光束電流、分辨率、光束點輪廓、光束超過掃描範圍、掃描速度、停留時間和樣品溫度。9500 EX配備了強大的計算機資產和各種軟件工具,允許用戶對自定義的流程進行編程。此模型具有一個內置永久內存,用於存儲用於每個作業的所有參數和設置,從而可以重新創建任何銑削過程。此外,直觀的圖形用戶界面可幫助用戶跟蹤銑削進度,並提供分析和報告工具來監視和分析銑削結果。總體而言,FEI/MICRION 9500 EX提供了強大而精確的離子銑削設備,具有出色的自動化水平和用戶友好的界面。它是納米結構和組件銑削的理想選擇,因為它提供了精確且可重復的銑削過程。由於其出色的銑削參數、廣泛的離子類型和自動界面,對於那些尋求高級離子銑削能力的人來說,該系統是一個極好的決策。
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