二手 FEI / MICRION 9500 EX #9383328 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9383328
Focused Ion Beam (FIB) system
Stage type: 200 mm x 200 mm
Load lock system
IBM RISC System
6000 43P 140 Computer
MCP Detector
I-Gun type: column 5 nm
Beam current: 3 pA - 931 pA (50 kV)
Depo system:
Tungsten
Tmcts
O2
H2O
Cl2 / Br2
XeF2
Vacuum pump:
Turbo molecular pump
(2) Mechanical pumps
(2) Ion getter pumps.
FEI/MICRION 9500 EX是一種先進的離子銑削設備,設計用於制備用於透射電子顯微鏡(TEM)分析的大樣品。離子銑削系統非常適合需要無與倫比的性能、精度、穩定性和便利性的用戶。FEI 9500 EX可容納大樣品,直徑可達6英寸。它的大樣本量允許在一個步驟中銑削較大的目標區域(ROI)。MICRION 9500 EX還具有「旋轉蝕刻」功能,可快速蝕刻直徑最大為3.6英寸的較大樣品。9500 EX采用符合人體工程學的設計,在銑削過程中提供卓越的舒適性。它的傾斜和可移動腔室便於取樣,便於安裝和拆卸用於銑削不同尺寸和類型樣品的單元。FEI/MICRION 9500 EX采用先進的慣性聚焦技術設計,具有最先進的負離子源。這項先進的技術提供卓越的性能和穩定性,為用戶提供最精確和準確的結果。精密的慣性聚焦機還具有先進的光束控制和多重光束監控技術,使用戶可以精確對準光束並調整焦點,以最大限度地準備樣品。集成的放大倍率和圖像捕獲工具有助於實現自動化的連續成像和聚焦。此功能允許用戶在銑削過程中自動調整焦點並收集樣品的高分辨率圖像。自動成像系統還會在銑削過程中排除離子束的任何潛在問題。為確保最大安全和防止樣品汙染,FEI 9500 EX采用了先進氣流模型的綜合抽水設備。該設備的工作原理是從銑削室中提取氣載顆粒,保護樣品免受進一步汙染。MICRION 9500 EX提供多種離子束選項,從寬束離子(E-Beam)到聚焦束離子(FIB)。可用的離子電流範圍很廣,在銑削過程中為用戶提供了更高的精度和精確度。9500 EX也通過CE標誌認證,用於歐洲和其他國際市場。FEI/MICRION 9500 EX是一種先進的離子銑削系統,設計用於TEM的精確樣品制備。它的先進技術、大樣本量和自動化成像單元使其成為需要無與倫比的性能和便利性的研究人員的理想選擇。
還沒有評論