二手 FEI / MICRION 9500 #9210449 待售
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ID: 9210449
Focused Ion Beam (FIB) system, parts machine
Source:
Gallium ion source
Resolution: 5 nm (Potentially up to 10nm)
Image:
Micro channel plate
Analog channelling with 256 grey level for high contrast
Gas injector:
Tungsten (for deposition)
Chlorine for (selective etching)
XeF2 for (selective etching)
Spare port for other gases
Charge:
Neutralization: E gun (Filament issue)
Load / Unload: Fully automatic load lock
Vacuum system: PFEIFFER Turbo pump system with fore pump
Stage: 8”
(6) Axes eucentric tilt stage
Tilt: 0–60°
Rotation: 360° (±180°)
Spare parts included
Power supply: 50 kV.
FEI/MICRION 9500是一種離子銑削設備，設計用於蝕刻、改變和去除薄層的低溫沈積樣品，用於各種研究和工業應用。該系統提供對離子轟擊參數的精確控制，包括入射角、電流、間隙電壓和壓力。它專為小至10 nm或更大面積的輕柔蝕刻而設計，非常適合電子顯微鏡、材料表征和科學研究。FEI 9500利用電子束產生高能粒子轟擊樣品層材料，侵蝕掉表面。單元的控制臺允許設置各種參數，包括能量、壓力、間隙電壓和入射角。通過調整參數,用戶可以確定要處理的樣品的表面積,以及可以蝕刻或更改的表面深度。機器產生的離子束可以通過電子方式調節到單位數的埃。它還能夠提供從0.5mA到10mA的可變離子槍電流，最大沖擊能量為0.9千電子伏特（KeV）。此外，離子束的撞擊角可以由0°調節至80°，腔室內的壓力由助推泵調節。MICRION 9500的真空室能夠壓低至1 x 10-6 Torr，允許最精確的蝕刻程序。此外,該工具還配備了超高真空視口,可確保完整的成像資產,並提供WDS/EDS樣本分析以及手動成像控件。總體而言，9500是一種可靠、精確的樣品離子蝕刻和鉆孔模型。它提供了對轟擊參數的無與倫比的控制和易於使用的控制臺，確保任何表面的改變都是仔細和精確的執行。這種設備對於需要精確控制精細樣品蝕刻的研究和其他科學工作非常寶貴。
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