二手 FEI / MICRION Vectra 986 #9145596 待售

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ID: 9145596
優質的: 2010
Particle beam system I-Gun type: 5nm Column Beam current: 3pA~931pA (50kV) Depo system: Tungsten Tmcts O2 H2O Cl2 / Br2 XeF2 Vacuum types: Turbomolecular pump (2) Mechanical pumps (2) Ion getter pumps Stage type: OBIC Laser Loadlock type: Loadlock system PS / OS: IBM RISC System / 6000 43P Model 150 computer / AIX 4.3.3 Detector: MCP 2010 vintage.
FEI/MICRION Vectra 986是一種廣泛應用於顯微鏡中的離子銑削設備,用於稀釋金屬、半導體、陶瓷等樣品。該系統由一個腔室、兩個離子源、一個旋轉進料器和一個精密級組成,提供了一個有效而優秀的底物蝕刻速率。它具有高效的源和控制濺射速率的能力,有助於最小化每個樣品的時間和成本。FEI Vectra 986能夠產生非常均勻的表面結構,從而產生優越的表面質量。它還提供了諸如背面銑削、塗層和原位清潔等工藝,以及其他選項,如嵌入式對比度增強,以增強圖像細節和保真度。在離子銑削過程中,樣品基板被高能離子轟擊,一次剝離表面層一個原子。這一過程可以利用能量加速度的可調範圍輕松控制,讓用戶精確調整潛在樣品蝕刻的深度。這一過程對於基板蝕刻非常有效,因為它產生的平面邊緣緩緩傾斜,允許去除大面積且失真最小,並允許樣品表面固定角度的離子照明。MICRION Vectra 986由於其控制和缺陷檢測軟件,是一種高度可靠的設備。它利用各種算法和映射工具來檢測內外缺陷以及特征特征。此外,由於該裝置是為低壓操作而設計的,因此能夠進行極其精確的采樣,這意味著該裝置的工作不會造成電弧擊穿或樣品意外損壞的危險。Vectra 986是一款全方位的出色銑床,可提高材料去除率、高精度曲面和提高產品產量。憑借其眾多的自動化控制和原位成像選項,它可用於研究、開發和制造部門的許多過程步驟。
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