二手 FEI / MICRION Vectra 986+ #9294478 待售

FEI/MICRION Vectra 986+是一種最先進的離子銑床，設計用於精密表面制備和薄膜沈積工藝。該設備能夠產生超光滑、納米級的表面特征，增加基板、掩模和晶片等物體的表面積覆蓋。FEI Vectra 986+配備了多種功能，使其成為單層和多層薄膜應用的理想系統。設計了一種高效的離子束銑削頭，將精確的束對準與「束傾斜」能力相結合，提供優化的離子束銑削結果。該單元可與眾多離子束源結合使用，定義束輪廓的形狀和結構。MICRION Vectra 986+配備了多種控制技術，包括軟件引導傾斜度、濺射速率、濺射壓力和光束角度調節，對基板上的離子束軌跡提供精確控制。Vectra 986+中的自動化系統使用戶能夠將處理器內存保存到本地硬盤驅動器,從而無需使用每種新設置重新配置計算機。該設備還提供自動基板卡帶加載和分選功能，以加快基板的變化和提高生產線的吞吐量。FEI/MICRION Vectra 986+還包括一個可變壓力工具，允許調節離子源、基板腔和資產的其他部分。此功能可確保對離子銑削過程的精確控制。此外，該模型還帶有遙感模塊，可提供遙控操作和監測功能。FEI Vectra 986+還包括一個負載鎖室，允許用戶在過程之間快速準確地準備基板。MICRION Vectra 986+的設計符合離子銑削的最高精度標準。設備的低噪聲室意味著系統是無振動的，從而能夠精確控制離子束。該單元還配備了一個微處理器，可連續監控基板的位置和溫度，以確保最佳性能。總之，Vectra 986+配備了多種先進功能，包括自動卡帶加載、可變壓力機和遙感模塊，使其成為精密表面制備和薄膜沈積工藝的領先機器。該刀具高效、精確的離子束銑削頭結合傾斜和濺射壓力調節，確保了最佳離子束軌跡和光潔度。