二手 FEI / MICRION Vectra 986FC #293718112 待售

ID: 293718112
晶圓大小: 8"
Focused Ion Beam (FIB) system, 8" Upgraded to IET / WDR System Circuit editor: 28 nm Ion mill column Acceleration: 50 keV Ion column resolution: 5 nm Bipolar power supply Laser interferometer stage, 8" Proprietary charge neutralization system Virtual apertures: (14) Beam currents Pre-soak chamber Wafer holder, 8" Current monitor sample holder Tungsten metal deposition Hard Disk Drive (HDD), 500 G RAM Memory, 3400 Megabyte Gases : Chlorine / Bromine Xenon difluoride Siloxane (TMCTS) Oxygen Tungsten Display: Colour monitor, 21" Line resolution (1280 x 1024) Virtual apertures: (14) Beam currents Gas delivery system: Metal (Cl2) Dielectric (XeF2) (2) GAE Stations Penta / Tri nozzle configuration Dielectric deposition: Tetra Methyl Cyclote Trasil Oxane (TMCTS) Oxygen No IR cameras.
FEI/MICRION Vectra 986FC是為先進半導體制造和材料研究應用而設計的高性能聚焦離子束(FIB)銑削設備。這種尖端儀器將離子束銑削功能與高度精確的成像和分析功能結合在一起,以實現納米級結構的精確制造和表征。FEI Vectra 986FC的核心是它的聚焦離子束柱,它產生了一個精細聚焦的氙離子束,用於銑削和成像。該系統能夠產生具有亞納米分辨率的離子束,非常適合需要極高精度的任務,如電路編輯、故障分析、樣品截面等。MICRION Vectra 986FC具有多用途級單元,可進行多軸樣品處理和定位,使用戶能夠精確定位樣品表面上的特定目標區域進行處理。該級機還支持對銑削過程進行現場監控,確保實時反饋和調整以獲得最佳效果。除了離子銑削功能外,Vectra 986FC還配備了高級成像和分析功能,可增強其在各種應用中的實用性。該工具具有高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)和二次離子質譜(SIMS)成像模式,提供樣品表面的詳細可視化和納米級的成分分析。此外,FEI/MICRION Vectra 986FC提供自動成像和數據采集功能,簡化工作流程並提高用戶的生產效率。該資產的直觀用戶界面和軟件控制允許對復雜的銑削和成像任務進行輕松編程,使經驗豐富的研究人員和新來者都可以訪問該資產。FEI Vectra 986FC的主要優勢之一是它在處理各種樣本類型和大小方面的多功能性。無論是使用半導體晶片、生物樣品,還是材料科學樣品,模型都配備了適應各種樣品幾何形狀和表面條件,確保了不同應用的一致和可靠的結果。此外,MICRION Vectra 986FC設計用於高通量處理,使樣品制備和分析的周轉時間更快。其先進的腔室設計最大限度地減少了汙染和樣品漂移,確保即使在長時間的操作期間也能得到一致和可重現的結果。總體而言,Vectra 986FC代表了最先進的離子銑削設備,它結合了尖端技術和用戶友好的設計,在納米級結構的制造和表征方面提供了無與倫比的性能和可靠性。FEI/MICRION Vectra 986FC具有先進的功能和多用途的功能,是研究人員和制造商尋求突破納米技術和材料科學界限的寶貴工具。
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