二手 FEI / MICRION Vertra vision #9145593 待售
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ID: 9145593
Particle beam system
I-Gun type: 5nm column next gen
Beam current: 3pA~931pA (50KV)
Depo system:
Tungsten
Tmcts
O2
H2O
Cl2 (or Br2)
XeF2
Vacuum type:
Turbo molecular pump
(2) Mechanical pumps
(2) Ion getter pumps
Stage type: OBIC Laser 200 x 200 mm
Loadlock type: Loadlock system
PS / OS:
IBM RISC System
6000 43P Model 150 computer
AIX 4.3
Detector: MCP
Others: FIB Assist(Version 0.9).
FEI/MICRION Vertra視覺是為各級用戶開發的多功能離子銑削設備。它旨在為表面制備、圓盤制備、銑削厚度和槽蝕刻應用提供最大的靈活性。該系統使用戶能夠獲得高精度、可靠和可重現的結果。FEI Vertra視覺單元由一系列氣體感應和電離電池組成,連接到真空室、離子源和束線。這臺機器能夠以各種離子束強度進行精確、交錯的基板操作。此外,梁轉向功能為用戶提供了精細調整銑削工藝參數的能力。MICRION Vertra視覺的特點包括精確的光束聚焦、極高電流值的低kV操作和控制光束方向的能力,以及銑削速度和吞吐量。此外還有高壓氣體傳感器、微觀采樣能力、用於工藝微調的隔膜閥和耐汙染窗口。此外,該工具還提供空白工作臺、運動控制、掃描參數的屏幕顯示以及外部光束快門,以提高安全性。Vertra視覺提供了出色的銑削參數和均勻性。它是薄膜沈積、半導體工藝應用、納米顆粒沈積和透蝕應用的理想選擇。資產的高溫、高壓能力也是高精度通過蝕刻的理想選擇,能夠優化離子束變薄和離子束驅動的蝕刻厚度。它甚至被證明有助於生產多層結構。總而言之,FEI/MICRION Vertra視覺是一種先進的多用途離子銑削解決方案,非常適合各種工業和研究應用。它具有很高的準確性和可靠性,允許用戶精確控制銑削過程並產生可重現的結果。該模型的先進特性和功能使其成為要求苛刻的制造和工藝要求的絕佳選擇。
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