二手 FEI Vectra 200DE #293818006 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293818006
優質的: 2000
Circuit Edit Focused Ion Beam
Single-beam system
Used for circuit editing
Gallium source
Ion column
(4) Gas Injection Systems (GIS)
Television (TV) Monitor
Oscilloscope
Keyboard
Mouse
Monitor
Control Personal Computer (PC)
Faulty ion beam ignition control board
Gases: Xenon Difluoride (XeF₂), Platinum (Pt), Iodine, Oxide deposition
2000 vintage.
FEI Vectra 200DE是一種尖端的離子銑削設備，在包括半導體加工、材料科學研究、故障分析等多種應用中為精確、均勻的材料去除而設計。這種先進的工具提供了無與倫比的性能和多功能性,使其成為尋求在工作中取得高質量成果的研究人員和工程師的首選。Vectra 200DE的核心是其離子束銑削技術，利用聚焦的離子束從樣品表面去除材料。這一過程使用戶能夠以納米級精度精確成型、拋光和稀薄樣品，從而可以創建用於透射電子顯微鏡、SEM樣品制備和其他高級應用的超薄截面。該系統配備了高亮度離子源，提供高電流密度的聚焦緊密的離子束，允許快速的材料去除率和高的處理速度。遠光束電流還確保了在各種材料上的出色銑削性能,包括金屬、陶瓷、聚合物和半導體,使FEI Vectra 200DE適合各種不同的應用。Vectra 200DE的主要功能之一是其高級成像功能,它允許用戶精確控制銑削過程並實時監控進度。該單元配有一臺高分辨率成像機,可提供樣品表面的詳細視圖,允許用戶可視化銑削進度,並根據需要調整參數以獲得所需的結果。除了成像功能外,FEI Vectra 200DE還提供一系列高級自動化功能,可簡化銑削過程並提高整體效率。該工具配備了直觀的軟件,使用戶能夠輕松編程銑削參數、設置銑削序列和遠程監控進度,從而減少了手動幹預的需要,並確保了一致的結果。Vectra 200DE還具有高度穩定的樣品階段,在銑削過程中保持精確定位,使用戶能夠在整個樣品表面實現均勻的物料去除。這種穩定性對於獲得高質量的結果至關重要,尤其是在處理需要仔細處理以避免損壞或失真的細膩或多層樣品時。總體而言,FEI Vectra 200DE是一種最先進的離子銑削資產,可為各種應用程序提供無與倫比的性能、多功能性和精確度。其先進的離子束技術、成像能力和自動化功能使其成為從事半導體加工、材料科學和故障分析等領域工作的研究人員和工程師的重要工具,在這些領域,精確的材料去除對於獲得高質量的結果至關重要。
還沒有評論