二手 MICROBEAM Nanofab 150 #9172653 待售
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單擊可縮放
ID: 9172653
晶圓大小: 8"
Direct write ion beam lithography system, 8"
GDSII
Integrated laser position stage
Minimal beam spot size: 20nm
Energy: 4 -150 keV (300 keV double ionization)
ExB Mass filter
M/deltaM ≥ 50
Liquid metal ion sources: Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi
Beam current density: Up to 5A/cm2
Computer controlled
Stepper motor driven substrate state: 165mm x 165mm travel
1 nm Resolution laser position monitor
Upgrade options available:
Advanced sub 10nm ion optics
Stainless steel system with 10 Pallet load-lock (6" wafer only)
8" wafer handling (2 pallet load-lock only)
General System Upgrade (GSU): Includes vacuum, computer, data handling software, interferometer
Ion sources: 5A/cm Ga, Si, Ge, In, Be, Au, As, B, Pd, Bi sources
Ion guns
Advanced Performance Gun (APG) and source.
MICROBEAM Nanofab 150是一款先進的離子銑削設備，設計用於以極高的精度處理極小和敏感的表面。該系統利用一個聚焦的離子束，它通過一個柱子發送原子級的研磨和材料的蝕刻到亞微米級。此過程是完全自動化的,這意味著在操作過程中需要最少的用戶幹預。該單元由三個主要元素組成：離子槍、氣箱和加工室。離子槍由離子源、加速柵格和準直鏡組成。離子源必須與正在加工的材料兼容，加速度柵格和準直鏡結合產生準直的離子束；然後可以將該光束聚焦並精確地指向工作區域。氣箱用於在加工室中產生受控環境；它容納氣源並提供一個放置材料的平面。最後，當梁與氣箱平面上的材料相互作用時，加工室是進行銑削和蝕刻過程的地方。機器產生一個精細控制的離子束，能夠逐層精確地瞄準工作材料。結果是對亞微米級進行了精確的蝕刻，可用於創建極其復雜的圖樣和結構。此外，這種操作可以自動化，並通過適當的編程，能夠以極高的精度和速度生成復雜的模式。惰性氣體的使用還可確保材料不會因工藝本身而受損。Nanofab 150是一款非常先進的設備，設計用於亞微米級精細材料的精密銑削和蝕刻。它為蝕刻和微加工應用提供了高度的精度和控制。該工具是完全自動化的,並通過適當的編程,可以節省時間並提高生產質量和吞吐量。
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