二手 NANO-MASTER NIE 4000 #9182949 待售
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單擊可縮放
ID: 9182949
優質的: 2016
Ion beam etching system, 14.5"
Physical etching with accelerating Ar ions
Patterned with thick resist for masking
Energetic ion flux during etching overheats:
Substrate
Resist
Substrate temperature: <50°C
SS Cube ion beam chamber
DC Ion gun: 12 cm, 1000 V, 500 mA
DC Motor driven: SS Shutters
Ion beam neutralizer
Ar MFC
Chilled water cooled: Substrate platen, 6"
Wafer rotation: 3-10 RPM
Vacuum stepper motor
Wafer tilt with stepper motor
Pumped rotational seal
Manual / Automatic wafer: Load / Unload
Typical etch rates:
Cu: 20 nm/min
Si: 50 nm/min
Etch uniformity: +/- 5% over 4" area
Turbo pump:
Base pressure with 500 1/sec:
5 x 10-6 Torr < 20 minutes < 2 x 10-7 Torr
Base pressure with 1000 1/sec: 8 x 10-8 Torr
Protect etched metal surfaces from oxidation
Recipe driven
Password protected
Safety interlocked
Missing part: Foreline pump
2016 vintage.
NANO-MASTER NIE 4000是一種離子銑削設備,旨在提供高精度數據和高表面通量。通過使用聚焦離子束（FIB），NIE 4000從各種底物中創造出納米大小的結構和材料。該機具有高品質、緊湊的設計，包括兩個可容納各種樣本量的集成腔室。NANO-MASTER NIE 4000系統由液氮冷卻單元、計算機控制操作單元以及產生離子束並聚焦的腔室組成。機器的中心是離子源，其中生成FIB。這種高精度的離子束能夠用多種材料，包括金屬和薄膜基板制造超細納米結構。全自動氣體調節裝置有助於通過清除樣品中殘留的汙染物來提供最高質量的數據。NIE 4000允許精確控制離子束能量、束電流和焦點。這樣可以精確地進行通用制造。憑借其專門的軟件包，NANO-MASTER NIE 4000還可以用於成像、精密深度剖析和陣列繪制。此外,用戶界面允許監視、自動化和用戶控制。這使得自定義程序以滿足用戶的特定制造需求變得容易。NIE 4000的集成靜電透鏡提供了更大的工作距離，有助於減少離子穿透。此外,它的大型采樣階段允許在一次運行中處理更多的采樣。其增強的計算機控制操作工具確保了納米尺度的準確和一致的數據。NANO-MASTER NIE 4000是精密納米材料制造的理想資產。其先進的FIB技術和高精度工程提供了卓越的性能和精度。NIE 4000允許更高的定制、精度和速度,使其成為尋求高級離子銑削解決方案的用戶的理想選擇。
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