二手 OXFORD Ionfab 300 Plus #293815692 待售

ID: 293815692
晶圓大小: 6"
Ion Beam Etching (IBE) System, 6" Materials: Au, Cr, Ta, Al, Fe, Co, Boron and Silicon Process: IBE Gas supply system including MFCs (2) AR Gas lines Ion source diameter: 35 cm Single wafer capability Load lock Auto loader Tiltable substrate holder angle: −90° to +35° (0° = vertical, 0° incidence angle) Wafer backside cooling No WLOM Endpoint monitoring Dry scroll pump Small turbo molecular pump Rotary vane pump Turbo molecular pump No chiller Operating system: Windows XP Power supply: 3000 W.
OXFORD Ionfab 300 Plus是一種離子銑削設備,設計用於表面平面化、納米圖案化、金屬蝕刻等高精度應用。它配備了高頻、高能雙束離子源,提供化學和物理濺射。該系統還具有多種多級旋轉泵和過濾系統,以實現清潔運行和長期可靠性。Ionfab 300 Plus具有6目標氣體噴射單元,提供精確的氣體/目標成分可編程性,高分辨率彩色攝像頭,以及兼具手動和計算機控制選項的綜合控制機器。高頻雙束離子源可實現包括蝕刻速率、沈積速率和工藝再現性的廣泛濺射工藝參數。離子束具有極好的表面光潔度,表面殘留最小化,表面效果最小化.OXFORD Ionfab 300 Plus配備了高度先進的控制工具,能夠精確控制和監測濺射過程。此資產允許對各種工藝參數進行編程,包括基板溫度、射頻發生器功率水平、光束對準和壓力差異。自動化模型還可用於人工幹預的復雜過程配方。在安全性和環境考慮方面,Oxonfab 300 Plus的設計具有低排放源、最小噪聲和低振動水平。它還獲得了符合歐盟健康和安全要求的認證,並符合RoHS指令。此外,該設備受三年保修的保護,額定運行溫度範圍為30°C至95°C。總體而言,Ionfab 300 Plus是業界領先的離子銑削系統,能夠產生無懈可擊的結果,並具有精確的控制和可重復性。它旨在迎合表面平面化、納米光學、金屬蝕刻等高精度應用。該單位還遵守健康和安全條例,並受三年保修的保護,以實現額外的安心。
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