二手 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9222516 待售
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已售出
ID: 9222516
優質的: 2010
Dualbeam Focused Ion Beam (FIB) system
Workstation:
Nano-prototyping
Nano-machining
Nano-analysis
Advanced TEM sample preparation
Electron optics:
Resolution: 0.9 nm @ 15 kV & 1.4 nm @ 1 kV
Detection: In-lens SE & BSE
Ion optics:
Sidewinder™ field emission focused ion beam optics
With liquid gallium ion emitter
Resolution: 5.0 nm @ 30 kV
Detection: CDEM Detector
Pattern: Imaging and patterning
With end-point detection through real-time monitor
AutoFIB
Platinum deposition
Selective carbon mill
Enhanced etch
TEM Sample preparation
AutoTEM G2
Micromanipulator: OMNIPROBE Autoprobe 200.2
Gas Injection system (GIS):
(2) Charged ports
Materials in charged ports: Platinum, Gold
Uncharged port
(5) Open ports for new sources
Tip life time:
EB 2-3 years
IB 3 months
Diagnostics:
EDS& EBSD
Pegasus package, EDAX
2010 vintage.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600是一款最先進的離子銑削設備,旨在提供具有卓越精度和精確度的納米級銑削和拋光。這項先進的技術是基於使用加速離子準確高效地濺射或蝕刻材料的概念。它是最新的納米和微型規模加工應用的理想選擇。FEI Helios NanoLab 600系統包括幾個關鍵組件。IPD（Interactive Process Diagnostics）單元為熟練的操作員提供了有關初始離子源參數的信息，可用於確定切割速度、腔室壓力和其他相關操作數據。該機還配備了場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM），允許對離子產生的小規模電路和結構進行成像。PHILIPS HELIOS NANOLAB 600具有獨特的多極電磁群集源和固定式離子束源，在設計過程時允許高度的靈活性。它還具有一個低壓操作室，它提供了一個大氣環境，離子可以自由移動，而不會破壞被蝕刻或銑削材料的表面。這種工具采用最新的離子光學和離子操作技術設計，在切割和蝕刻材料時具有很高的精度和控制能力。NanoLab 600還具有廣泛的安全功能。這包括個人屏蔽資產，減少模型運行期間對操作員的輻射量。該設備還具有交互式圖形用戶界面（GUI），允許操作員從遠程終端或計算機控制過程。這樣可以確保系統安全高效地運行。最後，HELIOS NANOLAB 600是一種先進的離子銑削裝置，它提供了超高精度和精確度的納米級銑削和拋光。它配備了廣泛的安全特性，並具有獨特的多極電磁群集源和固定的離子束源，在設計過程時允許高度的靈活性。這臺機器是最新的納米和微型機加工應用的理想選擇。
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