二手 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9229169 待售

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ID: 9229169
優質的: 2009
Dual beam Focused Ion Beam system (FIB) Without loadlock With regular stub sample holder Process: Xsection preparation / Imaging Pre-pump with chiller Missing parts / Accessories: High voltage power supply for e-beam defect 2009 vintage.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600是為精密納米加工應用而設計的雙束離子銑削設備。它將聚焦離子束(FIB)和掃描電子顯微鏡(SEM)功能結合在一個提供高精度、高速和高成像分辨率的通用平臺中。該系統有一個兩槍FIB腔,用於在銑削操作中傳遞遠光電流和濺射材料。其可調的高壓柵極允許在銑削過程中進行光束控制。FIB室還包含一個能夠達到低於1x10-6 Torr壓力的真空單元。雙梁機確保同一個區域可以在單程中進行銑削和成像,從而最大限度地減少了總循環時間。FEI Helios NanoLab 600的掃描電子顯微鏡(SEM)具有先進的成像功能,並通過可選的電子束成像包得到增強。此軟件包增強了成像工具的功能,可實現卓越的成像分辨率、高靈敏度EDS元素分析和X射線衍射(XRD)。資產還包括用於樣品處理和更換的自動化系統。自動取樣平整平臺根據銑削/蝕刻和成像的需要上下移動。實施了自動開蓋模型,用於取出和更換樣品支架。這些功能可實現不間斷的自動示例處理。該設備具有高精度X和Y軸級,特征尺寸精度為1nm。該級由獨立的數字伺服放大器驅動,使其適合亞微米應用。此外,它還配備了空氣軸承系統,確保平穩、精確的樣品操作.最後,PHILIPS HELIOS NANOLAB 600是一種先進的離子銑削設備,它提供了一個通用的雙光束平臺,用於高精度銑削和成像納米結構。其自動化的樣品處理機、高精度的x和y軸級,以及雙槍FIB室都結合在一起,使其成為一種強大的納米加工工具。
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