二手 PHILIPS / FEI Helios NanoLab 600 #9410810 待售

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ID: 9410810
Dual beam Focused Ion Beam (FIB) system OXFORD INSTRUMENTS X-Max Silicon Drift Detectors (SDD): 80 mm OMNIPROBE 200 Retractable STEM detector GIS Units: C, Pt, SCE Fast beam blanker (For E-beam lithography) Accessories included.
PHILIPS/FEI Helios NanoLab 600是一種離子銑削設備,設計用於對硬質和軟質材料進行精確成型和圖案化。其先進的納米技術能力使材料能夠被切割和改變以滿足精確的制造要求。Helios系統提供一系列切割技術,包括高壓離子銑削和反應性離子銑削,使半導體制造、納米技術和精密工程等廣泛的應用成為可能。Helios NanoLab由兩個主要部分組成。第一節是真空室,與惰性氣源相連。然後,這種氣體被電離,並用於磨掉表面材料以產生所需的形狀或結構。第二部分是樣品支架,它能夠在銑削過程中旋轉並包含樣品。調節惰性氣體的壓力和溫度,確保材料輸出的準確性和質量。NanoLab 600可提供高達1000 nm/s的最大銑削速度。高度先進的材料沈積單元允許在納米水平上進行精確的蝕刻和圖案,沒有最小深度限制。高度敏感的控件使用戶能夠以比以前更高的精度和速度設計和制造元件。FEI Helios NanoLab 600包含強大的分析和數據管理功能,使用戶能夠快速高效地查看材料屬性和性能以及後處理結果。廣泛的文檔分析工具使用戶能夠使用收集到的數據來優化其流程設計和輸出。NanoLab 600是一款用途廣泛的機器,非常適合各種應用。它可用於精密元件的高精度制造,以及納米結構材料的蝕刻、沈積和表面整理。該工具可用於各種材料,從軟質和硬質到金屬、陶瓷和半導體。它也適用於原型設計和微加工應用。PHILIPS HELIOS NANOLAB 600是一項強大的資產,它使用戶能夠按照精確的規格快速準確地塑造、設計和設計材料。其先進的納米技術功能使用戶能夠以極高的精度和可重復性在納米級創建復雜的結構。
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