二手 PHILIPS / FEI Nova Nano 430 #293799835 待售
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ID: 293799835
優質的: 2009
Field Emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM)
Oil-free vacuum system
Chamber
Resolution: Up to 3-4 nm
Beam current:
High-resolution mode: Up to 10 nA
Analytical mode: Up to 22 nA
Accelerating voltages from 0.5 kV - 30 kV
Everhart thornley detector (for Secondary electrons)
Solid-state BSED for high vacuum
In Lens SE (TLD SE) and BSE (TLD BSE) detectors
Gatan Chroma CL Detector for wavelength 400-800 nm
EDS X-ray mapping (dual Bruker 30 mm2 detectors)
Low Vacuum Capability (< 0.1 Torr) using UHR low vacuum SED (Helix Detector) and low vacuum SED (LVD)
Deceleration Mode
IR-CCD camera for in-chamber viewing
5-Axes motorized Stage (X-Y-Z-Tilt-Rotation)
Working distance 5 mm -12 mm
Hard Disk Drive (HDD)
PC
Manipulator
2009 vintage.
PHILIPS/FEI Nova Nano 430是一種最先進的離子銑削設備，在透射電子顯微鏡（TEM）樣品制備、納米結構、器件制造等各種應用中為精確、受控的材料去除而設計。這種先進的刀具結合了尖端技術,在銑削速度、精度和均勻性方面提供了無與倫比的性能。FEI Nova Nano 430的關鍵特性之一是它的高分辨率離子光學系統，這使得該單元在材料去除方面能達到亞納米精度。這對於需要在納米級精確銑削特征的應用來說是必不可少的。該機配備了先進的離子源，可以提供廣泛的離子種類，使其用途廣泛，適合加工金屬、半導體、聚合物、陶瓷等多種材料。PHILIPS Nova Nano 430具有多束離子銑削功能,允許用戶同時研磨具有不同離子種類或能量的樣品的多個區域。此功能對於創建復雜的納米結構或同時執行銑削和成像任務特別有用。刀具還提供了一系列銑削策略,包括區域銑削、線銑削和點銑削,使用戶能夠根據自己的特定要求定制銑削過程。在性能方面,Nova Nano 430提供高的銑削速率和出色的整個樣品表面銑削均勻性。這確保了一致的結果,並最大限度地減少了材料去除的變化,這對於生產用於TEM分析或其他應用的高質量樣品至關重要。資產還配備了先進的自動化功能，如可編程銑削配方和自動舞臺移動，簡化銑削工藝，提高用戶生產率。此外,PHILIPS/FEI Nova Nano 430還采用了用戶友好的軟件界面,可直觀控制銑削參數並實時監控銑削過程。該模型支持先進的成像能力，如掃描電子顯微鏡（SEM）和聚焦離子束（FIB）成像，使用戶能夠高精度地可視化和精確瞄準銑削區域。除了先進的銑削能力外，FEI Nova Nano 430還配備了一系列安全功能，以確保用戶和設備的保護。其中包括在操作過程中防止未經授權訪問系統的聯鎖,以及在發生任何異常情況或故障時自動關閉過程。總體而言,PHILIPS Nova Nano 430離子銑削裝置代表了在納米級精確和受控材料去除的尖端工具。Nova Nano 430具有先進的功能、高性能和用戶友好的界面,非常適合於研究、開發和制造領域的各種應用,在這些領域,精確高效的離子銑削至關重要。
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