二手 PHILIPS / FEI Strata 200xp #293667899 待售
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ID: 293667899
Focused Ion Beam (FIB) system
Ga ion beam
Accelerating energy range: 5 to 30 keV
Beam current range: 1 pA - 11.5 nA
Gas Injection Systems (GIS): PT Deposition, selective carbon milling
Resolution in milling and patterning: < 50 nm.
PHILIPS/FEI Strata 200 xp是一種聚焦離子束（FIB）銑削設備,用於樣品的納米級操作。該系統提供卓越的曲面準備功能,以及精細曲面的陣列和加工。其精密的成像和分析系統可以精確控制樣品參數和納米級工藝。FEI Strata 200 xp在波聚焦離子束柱上利用的是一種移液態金屬離子源。最多可應用3 keV光束電壓，光斑尺寸為20至45 nm。其銑削速度高度可調節,範圍從每脈沖0.5 nm到超過14,000 nm/s。單元的定義和深度控制是通過使用專有的速度調制模式來實現的。它還能夠用透射電子顯微鏡在10 nm以下的分辨率下成像高達500 nm的電子束深度。PHILIPS Strata 200 xp能夠對各種材料（如金屬、有機材料、半導體和MEMS）進行陣列化、切片和加工。它提供了令人印象深刻的一系列工藝功能,例如等離子體蝕刻、表面修改和無掩碼光刻。它還配備了對齊機、目標濺射、集成自動樣品傳遞工具等功能。此外，該資產還包括一套復雜的成像和分析系統，使用戶能夠監測樣品操作和納米級工藝。這些系統提供了一種直觀且易於使用的分析納米級材料的方法。成像和分析系統包括掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡、電子反向散射衍射和納米分辨率3D成像。Strata 200 xp是一種高度通用的成像和銑削模型,非常適合材料的納米級操作。它提供卓越的分辨率、深度和速度控制,以及一系列分析功能。Strata 200 x具有先進的加工和成像功能,非常適合納米級精密制造。
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