二手 PHILIPS / FEI Strata 400S #9191984 待售

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ID: 9191984
Focused ion beam system With omniprobe, GIS (Pt) Needs replacement: MPC NNL, Strata (PIA) & SPC Win XP (HDD PC Omniprobe & power supply PC main) Chiller SMC HRS012-A-20 SC-EXC nXDS10i dry vacuum pump Flowmeter, 2/25, water FLIP stage encoder F/G, LMI, GA69, CA, longlife; suppressor; extractor; aperture strip.
PHILIPS/FEI Strata 400S是一種先進的計算機控制離子銑削設備,用於矽和其他先進材料的精確切削或變薄。該系統能夠有效地處理各種高價值材料,包括III-V、SiGe和低介電常數光致抗蝕劑。FEI地層400S單元能夠保持5um的準確度,在整個樣品中具有較高的均勻性。離子銑削涉及一個物理過程,其中氣體離子轟擊樣品並以用戶控制的精確速率「蝕刻」掉材料。在PHILIPS STRATA400S機中,樣品被放置在與標準真空工具相連的樣品支架上,從而使用戶能夠精確控制樣品周圍的大氣。然後將樣品支架放入專用腔室進行離子銑削。在密室內部,電子槍產生高能離子束,撞擊樣品。離子束由一系列螺線管水平掃描,在整個樣品中提供更大的均勻性。FEI STRATA400S資產可以在一系列不同的模式下處理樣品,包括固定光束切削、可變光束切削和連續劑量變薄。根據所需的效果,用戶可以設置離子束電流、幾何參數(如束大小、圖案形狀和掃描速度)、氣體參數(近似低速和溫度)和可調壓力。設置參數後,機器將開始離子銑削過程,在大多數材料中提供精確且均勻的減薄至10nm。直觀的圖形用戶界面允許用戶輕松地控制、修改和監控進程,只需單擊幾下即可。監視器顯示進程狀態,並提供進度的實時可視化,確保達到所需效果。與他一起,STRATA400S模型還能夠表面拋光和平滑。它可以提供減少分子嵌入的有效介電蝕刻,導致電容降低,在高密度板上的信號行為得到改善。這種設備還具有很高的吞吐量,通常一次生產2000多個晶圓。PHILIPS Strata 400S系統是一種可靠、高效、精確的離子銑削設備,用於矽和其他先進材料的精確稀釋。它提供了卓越的準確性和統一性,確保用戶以最小的大驚小怪達到所期望的效果。
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