二手 PHILIPS / FEI Vion PFIB #293829450 待售
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FEI Vion PFIB（等離子體聚焦離子束）是一種用於蝕刻和成形樣品的離子銑削系統，用於研究納米技術和極紫外線（EUV）光刻。設計用於實驗室和工業環境下的高精度樣品制造。系統產生的離子束是由幾個參數控制的直流（DC）束，如電勢和氣體電勢，以及束電流。Vion PFIB配備了兩個獨立的離子束源--射頻等離子體源和離子槍。RF等離子體源在以較高的電流蝕刻時使用，而離子槍則用於較低的電流導致更高解析度的成像。RF等離子體源在達到用戶設置的相應參數時被激活。離子束的使用過程分兩個階段進行。第一階段是樣品材料的離子轟擊，第二階段是樣品材料的後續蝕刻。離子束用來轟擊樣品表面，穿透材料，導致暴露區域濺射，材料蝕刻到一定深度。可以通過調整光束的能量、光束的通量和轟擊持續時間來控制蝕刻速率。FEI Vion PFIB可用於多種應用，如納米技術結構和納米印刷品光刻。納米技術結構可以用Vion PFIB進行高精度和高精度的建模和蝕刻。納米印刷品光刻也可以用來介紹納米尺度上的特征，使用樣品表面已經存在的單態特征層。這樣就可以在樣品的預定位置引入納米級特征。總體而言，FEI Vion PFIB是一種先進的離子銑削系統，用於納米技術和極紫外光刻，能夠產生極其精確的圖像。它配備了兩個必需的離子源，一個等離子源和一個離子槍，允許使用者在受控的環境中蝕刻或建模材料。Vion PFIB以其在納米技術和極紫外光刻領域的各種應用，為業界創造納米級結構和特征提供了可靠的工具。
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