二手 SCIA Ion Mill 200 #293819419 待售
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ID: 293819419
優質的: 2019
Ion beam etching and milling system
(2) Process chambers with vacuum and Ion beam source
Electrical cabinet and software control
Point detection system (OES)
Interface: SECS / GEM
Handling unit:
MX700 with (2) Cassette load locks
Pump system
Vacuum pre-aligner
2019 vintage.
SCIA離子磨200是在半導體制造、材料科學、納米技術等領域專門為高精度材料去除和表面改性而設計的尖端離子銑削設備。這種先進的設備利用聚焦離子束，以無與倫比的精度和控制選擇性蝕刻和拋光樣品，為研究人員和工程師提供了實現亞納米表面光潔度和復雜納米結構能力的強大工具。離子磨200的中心是一個精密的離子源，它能夠產生一束聚焦緊密的高能離子束，典型的是氙離子束，其能量從幾十到幾百電子伏特不等。這種離子束指向樣品表面，與材料相互作用，導致原子濺射，最終以驚人的精度蝕刻掉頂層。通過改變離子束能量、電流和掃描參數,用戶可以定制銑削工藝,以實現特定的材料去除速率、表面粗糙度和蝕刻輪廓,使其適用於需要精確的材料去除和表面修改的廣泛應用。SCIA Ion Mill 200的關鍵特性之一是其先進的光束控制系統，使用戶能夠以亞微米精度精確定義銑削區域。這允許在納米級創建復雜的圖案、精細的結構和受控的表面粗糙度。此外,該單元還配備了精密的成像和計量工具,可提供有關銑削過程的實時反饋,使用戶能夠實時監控和調整參數,以實現所需的結果。Ion Mill 200能夠處理各種樣品類型和尺寸,從小型半導體晶片到大型基板,這要歸功於其通用的樣品支架設計和可定制的階段配置。這種靈活性使得它適用於廣泛的應用，包括器件原型設計、故障分析以及透射電子顯微鏡的樣品制備。除了先進的銑削能力外，SCIA Ion Mill 200還提供了一系列專門的表面改性工藝和技術，包括離子束拋光、材料沈積和離子束誘導的納米級特征沈積。這些附加功能進一步增強了機器的多功能性，使用戶能夠精確高效地執行復雜的材料加工任務。總體而言,Ion Mill 200為研究人員和工程師提供了最先進的解決方案,旨在在納米級實現超精密的材料去除和表面修改。憑借其先進的離子束技術、可定制的加工參數以及全面的成像和控制功能，這一工具為推進半導體制造、材料科學、納米技術等領域的研發提供了強大工具。
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