二手 CYMER ELS 5305 #9293806 待售

CYMER ELS 5305是為半導體光掩模和元件生產工藝設計的第三代準分子激光系統。已廣泛應用於半導體制造、器件測試、醫學激光外科等多種應用。ELS 5305是一種脈沖UV-procimer激光器，它使用氙氣、氟氣和氯氣的混合產生248 nm波長範圍內的激光束。這種激光束聚焦在光掩模或組件表面直徑約1.5mm的一個點上。激光脈沖持續時間約為200納秒，允許在特征尺寸為5微米或更小的VLSI電路上極精確地放置圖樣。CYMER ELS 5305的射速高達500 Hz。這使得激光可以在單個光掩模上曝光超過5,000個電路。激光每脈沖的功率輸出也高達250 mJ。這種功率水平使激光能夠進行精確、高質量的曝光，而不需要對激光的焦點或其控制系統進行額外的調整。ELS 5305配備了自動瞄準和曝光控制系統，允許對激光的位置、功率水平和曝光時間進行高效、獨立的控制。這種控制系統還允許對激光束的焦點進行微調，使激光器能夠精確地對遮罩上甚至最小的特征進行陣列。激光裝在內置溫度控制、通風、減塵排氣系統的櫃子裏。這有助於確保激光在操作過程中保持冷卻,並且在允許機器再次運行之前充分清除任何汙染。CYMER ELS 5305以可靠性高、質量高、精度高著稱。它是廣泛的半導體光掩模或元件生產工藝的理想選擇，使其成為業界最受追捧的激光器之一。