二手 CYMER ELS 5305 #9295002 待售

CYMER ELS 5305是CYMER, Inc.制造的準分子激光設備，用於半導體和元件制造。它用於兩個關鍵工藝：光刻和濕蝕刻.激光系統經過優化,可提供高性能和高成本效率,同時滿足新興設備體系結構要求苛刻的流程要求。ELS 5305利用摻雜的陶瓷激光技術，發射不同波長的短脈沖紫外線（UV）光。利用高達10 Hz的脈沖重復率,以及高達170 mJ的脈沖能量,激光裝置可以有效地產生產生高度精確的光掩模特征所需的曝光能量。此外，根據CYMER，其專有的激光脈沖技術使得激光不受環境溫度和濕度的影響，從而確保了曝光結果的重復性。對於濕蝕刻工藝，激光機器能夠產生低至0.35 μ m的蝕刻深度和大於1.5 μ m的蝕刻寬度。考慮到激光的脈沖持續時間短，即0.37微秒，濕蝕刻工藝可以提供更高的精度，特別是對於淺蝕刻深度。CYMER ELS 5305還配備了專有的高級視頻顯微鏡和用於自動光刻工藝的焦控系統（V-MIC）。通過采用先進的位置感測、探測和制圖技術,V-MIC確保在整個制圖過程中保持焦點精度。為確保工具的長期可靠性,ELS 5305采用了閉環冷卻設備,可幫助始終保持一致的80度工作溫度。此外，還包括一個先進的空氣凈化模型，將空氣中的顆粒降低到0.2微米以下。總體而言，CYMER ELS 5305是為精密半導體和元件制造而設計的先進激光設備。它具有直觀的控制、先進的曝光/蝕刻技術、自動化的聚焦控制以及可靠的溫度/顆粒控制功能,非常適合高端光刻和濕蝕刻應用。