二手 CYMER ELS 5610 #9389758 待售

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製造商
CYMER
模型
ELS 5610
ID: 9389758
優質的: 2000
Laser Chamber Compression head for 5010 F2 Trap / Vacuum pump gas control module OC Plate GS1 / GS2 AC Distributor Auto Shutter Control module Cables Interface module (2) Bias cables HV Cable Exhaust box Blower motor Part number / Description 04-07200 / LNM s143635 / WSM 05-10032-01 / HVPS for 5010 05-3490-04 / Commutator for 5010 05-08120-01 / Cooling module 05-12096-03 / Blower motor controller 05-11019-02 / MFT Power 2000 vintage.
CYMER ELS 5610是一款最先進的準分子激光設備,設計用於薄膜和包括硬質和脆性表面在內的多種材料的高精度激光處理。它是集成電路制造、直接激光紋理和其他先進光子制造工藝的理想解決方案。ELS 5610具有卓越的光束質量和高達10 J的脈沖能量,具有2 kHz的競爭性共振頻率和緊湊的人體工程學設計,可實現最大的空間效率。CYMER ELS 5610配備了兩種標準準分子激光放電類型:單縱模(SLM)和超模(SM)。SLM放電模式適用於處理透明材料,而SM放電模式可用於處理不透明材料。其先進的觸發器體系結構支持定制射速和最高的拍攝穩定性和可重復性任何準分子激光平臺的同類。ELS 5610的內置外腔吸收器不需要任何外部吸收器,並提供強大的燒蝕性能。激光可以配置多種快門類型,包括手動分流器、電光快門和聲光快門。它還可以配置廣泛的光束處理器,包括集成光束均勻器、快速機械百葉窗、光學衰減器、光束擴展器和偏轉鏡。可以使用多種光學元件來最好地滿足應用要求。CYMER ELS 5610最多可掃描160毫米,其集成運動控制系統支持所有類型的2D或3D應用程序。集成的內置冷卻裝置和先進的電源控制機確保穩定運行,而不會對光學器件造成任何熱損壞。集成電源監控工具可實現精確的波束剖面分析,並為高精度、結構合理的集成微加工提供長期穩定性。為了執行先進的光電應用,ELS 5610可以與多種外部光學器件集成,包括激光醫學成像系統、激光投影儀和3D成像系統。一種高級數據采集資產支持實時監控和數據記錄,該模型可通過脈寬調制和其他高級功能進行升級。CYMER ELS 5610易於集成到現有的生產流程中,適用於低批量生產。這種高效的設備是用於精密制造應用的可靠且經濟實惠的解決方案。它為許多需要高精度和高光束質量的應用提供了精確可靠的激光處理。
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