二手 CYMER ELS 6400 #9193708 待售

CYMER ELS 6400準分子激光設備是一種最先進的、市售的工業紫外線激光系統，能產生極高的明亮照明，具有卓越的功率穩定性和操作靈活性，非常適合廣泛的工業應用。這種高功率激光器能夠發出高達6400瓦的光，並提供各種脈沖寬度，從30納秒到7微秒。CYMER ELS-6400的高功率輸出使需要大量能量的工業級材料處理應用程序（如玻璃劃線或電路板）能夠快速準確地完成。其軟件可控制的脈沖寬度為用戶提供了精確調節脈沖寬度的能力，有助於達到精確的材料處理效果。脈沖寬度也可以調制，以補償激光器中的熱變化，從而在長期運算時保持最佳的輸出功率。ELS 6400具有先進的光學單元,有助於消除光像差,從而提高光束穩定性和照明質量。它還配備了實時測量和校正光束像差的專利機器，導致處理更準確，缺陷更少。該光學工具利用六個激光反射鏡使激光束沿三個平面偏離，以獲得最佳照明效果。激光用密封閉環冷水機冷卻，確保在操作過程中保持最佳溫度。可編程溫度控制器允許用戶設置所需的激光溫度以獲得最佳性能。ELS-6400還具有用戶友好的LCD屏幕界面,可顯示激光的操作信息,使用戶能夠根據需要輕松監控和調整激光的設置。總體而言,CYMER ELS 6400是一種先進而強大的工業級激光資產,能夠以驚人的速度和精度執行各種工業材料加工應用。其最先進的光學元件和密封冷卻模型有助於保持激光在長時間內穩定可靠地運行,使其成為一系列工業應用的理想解決方案。