二手 CYMER ELS 7600M #9240618 待售

製造商
CYMER
模型
ELS 7600M
ID: 9240618
優質的: 2006
KrF Laser Wave length: 248 nm Repetition rate: 4000 Hz Power linearity: < 3% Pulse duration: ≥15 ns Maximum output power: 30 W Beam divergence: Horizontal: 1.4 ± 0.05 mrad Vertical: 2.5 ± 0.08 mrad 2006 vintage.
CYMER ELS 7600M是一種先進的準分子激光設備,設計用於半導體晶片的高速制圖。該平臺通過其專有技術提供極其精確的激光束控制和陣列設計能力。激光系統提供了增強的甲板間距靈活性、優化的脈沖特性和先進的算法設置。ELS 7600M產生了一個非常精細的激光光束,能夠創建高達0.15 μ m的音高模式。這種激光裝置能夠調諧低至5 μ s的脈沖持續時間,以獲得最佳的圖樣精度。在5-200 mJ的功率輸出範圍內,它可以非常精確地執行各種高密度的微米級制圖任務。CYMER ELS 7600M具有多種波長的激光器,從193-351 nm到根據每種沈積過程精心定制激光束特性,確保獲得最佳效果。它提供了卓越的動態控制,可實現高達8 μ m的深度聚焦深度,並在最具挑戰性的環境中實現卓越的長期運行穩定性。激光機的光學間距可調60至600毫米,以達到最大效率。激光頭與一組三個垂直掃描門相連,通過控制激光點在目標上的位置來提供高精度和高效的掃描。ELS 7600M產生模式的速度比其競爭對手系統快八倍,脈沖度宏達每秒50000行,提供無與倫比的生產速度。激光工具還具有一個集成的光束視圖攝像頭,可實時監控掃描和輸出輸出的動態圖像。直觀的軟件可幫助工程師準確、快速地設置激光資產,從而獲得最高的精度。此外,專有的數據采集和控制軟件支持遠程監視和控制激光,以實現高級網絡和監視功能。總體而言,CYMER ELS 7600M是一種先進的準分子激光器模型,設計用於半導體晶片的高速制圖,精度和精確度都非常高。其令人印象深刻的一組特性,包括可調節的波長、動態脈沖控制和優化的光束陣列,使設備非常適合要求極高的應用。
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